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              硅片回收后清洗的必要性分析 蘇州列克勤硅片回收公司

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              開采時間:2017-11-13 21:38
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              對硅片行業稍微有些了解的人都應該知道,廢硅片回收之后是必須要清洗的,而且我們還要對清洗過程給予必要的重視,不能馬馬虎虎,因為硅片回收清洗的效率將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性。下面我們就來了解一下費硅片回收清洗的重要性。

              現在人們已研制出了很多種可用于廢硅片回收清洗的工藝方法和技術,常見的有:濕法化學清洗、超聲清洗法、兆聲清洗法、鼓泡清洗法、擦洗法、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學法、流體動力學法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技術、氣相清洗、非浸潤液體噴射法、廢硅片回收在線真空清洗技術、RCA標準清洗、等離子體清洗、原位水沖洗法等。這些方法和技術現已廣泛應用于廢硅片回收加工和器件制造中的廢硅片回收清洗。

              表面沾污指硅表面上沉積有粒子、金屬、有機物、濕氣分子和自然氧化物等的一種或幾種。超純表面定義為沒有沾污的表面, 或者是超出檢測量極限的表面。

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