低電壓微弧氧化技術(shù)廠家報(bào)價(jià)

微弧氧化使用范圍

       由于微弧氧化技術(shù)具有工藝過程簡單，占地面積小，處理能力強(qiáng)，生產(chǎn)，適用于大工業(yè)生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，因此在機(jī)械，汽車，，電子，航天航空及建筑民用等工業(yè)領(lǐng)域有著極其廣泛的應(yīng)用前景。主要可用于對耐磨、耐蝕、耐熱沖擊、高絕緣等性能有特殊要求的鋁基零部件的表面強(qiáng)化處理；該氧化膜還具有良好的絕緣性，耐500V以上的高壓沖擊，且有效防止電偶腐蝕。同時(shí)也可用于建筑和民用工業(yè)中對裝飾性和耐磨耐蝕要求高的鋁基材的表面處理。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)

       微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會(huì)脫落，只有表面一部分氧化膜可能會(huì)被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時(shí)間的延長，微弧氧化膜厚度會(huì)不斷增加，直至達(dá)到外加電壓所對應(yīng)的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達(dá)到200-300μm。氧化時(shí)間對鋁合金微弧氧化效果的影響1、隨著氧化時(shí)間的增加，氧化工業(yè)鋁型材厚度增加，但有極限氧化工業(yè)鋁型材厚度。微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源

微弧氧化工藝研究

        微弧氧化的工藝研究主要集中在電流密度、電解液組成、電源模式、基材成分等工藝因素對氧化膜的厚度、結(jié)構(gòu)與性能的影響方面。 指出，電流密度對微弧氧化膜厚度有著決定性影響。在含有濃度6%水玻璃的電解液中，使用工業(yè)交流電源，對兒種不同鋁合金，依零件的不同幾何形狀和尺寸，電流密度在1--50A / cm2范圍內(nèi)，經(jīng)60次微弧氧化實(shí)驗(yàn)的結(jié)果表明，形成的氧化膜厚度與電流密度成線性關(guān)系。微弧氧化技術(shù)特點(diǎn)1、提高材料表面硬度微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內(nèi)部致密的陶瓷層。