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              發布時間:2020-10-07 19:32  






              銅或鎳自催化沉積用的還原劑均不能用來還原錫。簡單的解釋是因為錫表面上析氫過電位高,而上述還原劑均為析氫反應,所以不可能將錫離子還原為錫單質。中國鎳冶煉除幾家大型企業以外普遍采用火法的選锍熔煉技術,精煉鎳主要采用硫化鎳陽極隔膜電解和硫酸選擇性浸出——電積工藝,與世界先進技術還有一定差距,因此中國開采和冶煉的成本居高不下。要化學鍍錫就必須選擇另一類不析氫的強還原劑,如Ti3 ,V2 ,Cr2 等,只有用T3 /Ti4 系的報導。


              有Ni-P(鎳—磷)鍍層中引入銅,使Ni-Cu-P鍍層較好的耐蝕性能。還有Ni-Fe-p(鎳—鐵—磷)、Ni-Co-p(鎳—鈷—磷)、Ni-Mo-p(鎳—鉬—磷)等鍍層在電腦硬碟及磁聲記錄系統中及感測器薄膜電子方面得到廣泛的應用。化學鍍技術由于工藝本身的特點和優異性能,用途相當廣泛。6、仿型性好:在尖角或邊緣突出部分,沒有過份明顯的增厚,即有很好的仿型性,鍍后不需磨削加工,沉積層的厚度和成份均勻。中國在80年代才開始在化學鍍方面進行探討,國家在1992年分布了國家標準(GB/T13913——92),稱之為自催化鎳——磷鍍層。中國已將化學鍍技術廣泛用在汽車工業、石油化工行業、機械電子、紡織、印刷、食品機械、航空航太、軍事工業等各種行業,由于電子電腦、通訊等高科技產品的應用和迅速發展,為化學鍍提供了廣闊的市場。


              鍍液的化學組成、pH 值等各種參數與所得鍍覆層組成間的關系。此后,該領域新觀點、新工藝不斷涌現,由此也產生了許多專利。為了區別于電鍍而將該工藝起名為化學鍍或無電鍍、自催化鍍(electroless plating, auto-catalytic chemical plating)。在鍍液配方中,絡合劑的量不僅取決于鎳離子的濃度,而且也取決于自身的化學結構。化學鍍逐步達到和電鍍并駕齊驅,兩種工藝技術相輔相成。


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