國產直讀光譜儀廠家在線咨詢

直讀光譜儀較早起源于上世紀40年代，起初被應用于軍事裝備制造領域。第二次大戰后，隨著世界各國基礎設施的重建，經濟開始復蘇，光譜儀也逐步被應用于民用領域。上世紀60年代，直讀光譜儀被引入到國內，作為其一批應用者，鋼研納克的母體原鋼鐵研究總院（現為中國鋼研科技集團），見證了直讀光譜儀產業在我國的發展，這也為鋼研納克后期涉足該領域打下了堅實的基礎。2005年，鋼研納克推出一代直讀光譜儀——Labspark750，至今，鋼研納克的直讀光譜儀產品已歷經了三次較大規模的升級迭代，產品性能持續得到改進。本次鋼研納克在BCEI1A2019上推出的SparkCCD7000直讀光譜儀在檢測靈敏度、光學系統、智控、痕量元素識別等方面都有大幅提高，據了解，此儀器在發布會前已經過多次試驗比對，其各項數據均已處于國際1先進水平。

直讀光譜儀保養要素

激發臺

在激發系統中其基本維護的部位為激發臺內部，激發臺內部是否清潔、電極極距是否穩定，激發臺發光弧焰相對于光學系統的高度等，均會影響我們的數據結果。

1、拔出廢氣管，用吸塵器清理激發腔中的灰塵；

2、使用脫脂棉沾純酒精擦拭護套；

3、清理完成，用極距規重新測量一次分析間距；

4、再用氬氣沖洗整個回路2~3分鐘，以沖掉進入火花臺的空氣。

直讀光譜儀在檢測分析過程中由于各種因素的影響產生誤差是在所難免的，比如標準樣品和分析樣品成分不均勻、組織狀況不一致、光譜性能不穩定、樣品表面處理不好、氬氣純度不夠等一個因素出現問題，就會影響到光電光譜分析誤差。了解其產生誤差的原因，采取有效的措施進行消除或避免誤差，提高直讀光譜儀檢測結果的準確性，是一項十分重要的研究課題。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求

直讀光譜分析時，一般都采用內標法。因內標法進行分析時常采用多條分析線和一條內標線組成，常用試料中的基體元素為內標元素。組成的線對要求均稱，就是當激發光源有波動時，兩條線對的譜線強度雖有變化，但強度比或相對強度能保持不變。

如R表示強度比即        

R=I1/I0

I1為分析線的強度，Io為內標線強度，表明I1和Io同時變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關系。

在光電直讀光譜分析時，有很多分析通道，要安裝許多內標通道有困難，因此采用一個內標線。但有人認為再要提高光電光譜分析的準確度還得采用不同的內標線，這還有待于光電轉換元件的小型化來解決。

光電法時，有時還用內標線來控制曝光量，稱為自動曝光，也就是樣品在曝光時，分析線和內標分別向各自積分電容充電，當內標線的積分電容器充電達到某一預定的電壓時，自動截止曝光。此時分析線的積分電容器充電達到的電壓即代表分析線的強度I，并且亦即代表分析線的強度比R(因為R=I1/Io，而此時Io保持常數)這個強度I或強度比R就由測光讀數所表示。

現在一般采用計時曝光法較為普遍。