磁控濺射機報價誠信企業「沈陽鵬程」

雙靶磁控濺射鍍膜機的特點有哪些？

沈陽鵬程真空技術有限責任公司專業生產、銷售磁控濺射產品，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

產品特點

1：此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導電材料的濺射鍍膜

2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應用非常廣泛。

3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。

自動磁控濺射系鍍膜機介紹

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，希望對同行業的朋友有所幫助。

自動磁控濺射系統選配項：

RF、DC濺射

熱蒸鍍能力

RF或DC偏壓（1000V）

樣品臺可加熱到700°C

膜厚監測儀

基片的RF射頻等離子清洗

應用：

晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質涂覆

光學以及ITO涂覆

帶高溫樣品臺和脈沖DC電源的硬涂覆

帶RF射頻等離子放電的反應濺射

小型磁控濺射鍍膜系統簡介

小型磁控濺射鍍膜系統適合于快速濺射鍍膜科研、教學與小批量打樣，可快速、低成本的制備多種微納米厚度的膜層。

具有一體化、占用空間小、靈活的特點，無需380V工業電，無需額外冷水機，采用無油干泵分子泵組，無需操心真空系統和操作間環境泵油污染。

保證設備具有優異的質量與穩定可靠性。觸摸屏控制界面，帶來簡單、操作方便的體驗。

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磁控濺射鍍膜機導致不均勻因素哪些？

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原理上講，兩點：氣場和磁場

磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材，濺射出粒子沉積到基材上，整體靶材的電壓幾乎一致，不影響濺射速率。

0.4Pa的氣場情況是濺射速率較高的情況，氣場變化，壓強變大和變小都會影響濺射速率。

磁場大，束縛的自由電子增多，濺射速率增大，磁場小，束縛的自由電子就少，濺射速率降低。

穩定住氣場和磁場，濺射速率也將隨之穩定。

在實際情況下，氣場穩定，需要設計布氣系統，將布氣系統分級布置，保障鍍膜機腔體內不同位置的進氣量相同，同時，布氣系統、靶材、基材等要遠離鍍膜機的抽氣口。需要穩定磁場，用高斯計測量靶材表面磁場強度，由于磁場線本身是閉合曲線，靶材磁場回路兩端磁場強度自然比中間位置強，可以選擇用弱磁鐵，同時，基材要避開無法調整的磁場變化較大的部分。1-10Pa的氣或其它惰性氣體，在陰極（靶）1-3KV直流負高壓或13。

另外，在設備結構設計方面，磁控濺射過程中，需要基材與靶材保持同軸，如果旋轉、直線運行的話，也要同軸旋轉、直線運行。