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低輻射鍍膜玻璃又稱低輻射玻璃、“Low-E”玻璃，是一種對波長范圍4.5~25μm的遠紅外線有較高反射比的鍍膜玻璃（高透型Low-E）。低輻射鍍膜玻璃還能夠復合陽光操控功用，稱為陽光操控低輻射玻璃（遮陽型Low-E）。

低輻射鍍膜玻璃（高透型Low-E）適用于高緯寒區(qū)域，夏熱冬冷區(qū)域宜選用陽光操控低輻射鍍膜玻璃（遮陽型Low-E）。

應用多層膜干涉原理的薄膜防偽技術主要有兩種：一種是“整膜”的薄膜防偽技術；另一種是“碎膜”防偽技術。整膜和碎膜是指膜的形態(tài)而言。整膜是指一般意義上的防偽膜系；碎膜是指對反射式防偽膜系進行破碎，然后將碎片加入油墨中制成防偽油墨，再用這種防偽油墨進行防偽印刷。

防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜轉移式或間接鍍膜剪貼式。

真空鍍膜(包括物理氣相沉積和化學氣相沉積等)就是通過各種手段把被鍍物質轉換為氣態(tài)，在帶鋼表面形成薄膜鍍層。理論上所有的金屬、非金屬、有機物都能通過這個方式形成鍍層。

這種技術可以優(yōu)化組合形成多工藝、具有很高靈活性的復合鍍膜工藝，適應各種性能要求。因此，這種新技術的研發(fā)和實施將是鋼鐵企業(yè)表面技術和產(chǎn)品應對挑戰(zhàn)的超佳戰(zhàn)略。

與鏈條式傳送機構相比，該機構為剛性傳送，不存在齒合不準確問題同時，由于需要的過渡空間小，可以節(jié)約真空室之間閥門的開關時間、進一步減少不同真空室之間的氣氛互串。因而極大的提高了鍍膜工藝穩(wěn)定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。

隨著鍍膜技術的發(fā)展，各類真空鍍膜機也逐漸出現(xiàn)，不管是哪種真空鍍膜機，薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響。現(xiàn)在，我們就以磁濺射真空鍍膜機來分析成膜不均勻的因素。