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發(fā)布時間:2020-10-31 06:13  
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測量示例:
SiO 2 SiN [FE-0002]的膜厚測量
半導(dǎo)體晶體管通過控制電流的導(dǎo)通狀態(tài)來發(fā)送信號,但是為了防止電流泄漏和另一個晶體管的電流流過任意路徑,有必要隔離晶體管,埋入絕緣膜。 SiO 2(二氧化硅)或SiN(氮化硅)可用于絕緣膜。 SiO 2用作絕緣膜,而SiN用作具有比SiO 2更高的介電常數(shù)的絕緣膜,或是作為通過CMP去除SiO 2的不必要的阻擋層。之后SiN也被去除。 為了絕緣膜的性能和精準(zhǔn)的工藝控制,有必要測量這些膜厚度。


膜厚儀測試時有關(guān)輻射安全注意事項
幅射安全方面膜厚儀由于使用X射線管而產(chǎn)生輻射。測量頭的設(shè)計完全符合國際X射線安全要求: ·測量頭控制臺上的一個鑰匙開關(guān)通過打開或關(guān)閉X射線管上的高壓決定X幅射的產(chǎn)生與否; ·一個多級故障自動保險互鎖系統(tǒng)可控制X幅射的產(chǎn)生,從而有效保護(hù)操作者的安全; ·如果測量門沒有完全關(guān)閉,X幅射就不會進(jìn)入測量室; ·足夠的遮罩用來減小外部的幅射量。
膜厚儀廠家解釋凡其厚度與入射光波長相比擬的并能引起干涉現(xiàn)象(相干光程小于相干長度)的膜層為薄膜,其厚度遠(yuǎn)大于入射光波波長的膜層稱之為厚膜。如今,微電子薄膜,光學(xué)薄膜,抗1氧化薄膜,巨磁電阻薄膜,高溫超導(dǎo)薄膜等在工業(yè)生產(chǎn)和人類生活中的不斷應(yīng)用,在工業(yè)生產(chǎn)的薄膜,其厚度是一個非常重要的參數(shù),直接關(guān)系到該薄膜材料能否正常工作。
1.膜厚測試儀出現(xiàn)下列情況,必需重新校準(zhǔn)。 ·校準(zhǔn)時,輸入了一個錯誤值; ·操作錯誤。 2.在直接方式下,如果輸入了錯誤的校準(zhǔn)值,應(yīng)緊接著做一次測量,隨后再做一次校準(zhǔn),即可獲取新值消除錯誤值。 3.每一組單元中,只能有一個校準(zhǔn)值。 4.零點校準(zhǔn)和二點校準(zhǔn)都可以重復(fù)多次,以獲得更為精準(zhǔn)的校準(zhǔn)值,提高測量精度但此過程中一旦有過一次測量,則校準(zhǔn)過程便告結(jié)束。