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發布時間：2020-08-06 17:57
光刻膠京東方
事實上，我國是在缺乏經驗、缺乏專業技術人才，缺失關鍵上游原材料的條件下，全靠自己摸索。近年來，盡管光刻膠研發有了一定突破，但國產光刻膠還是用不起來。目前，國外阻抗已達到15次方以上，而國內企業只能做到10次方，滿足不了客戶工藝要求和產品升級的要求，有的工藝雖達標了，但批次穩定性不好。光刻膠國內的研發起步較晚光刻膠的研發，關鍵在于其成分復雜、工藝技術難以掌握。
“10次方的光刻膠經過多次烘烤，由于達不到客戶需求的防靜電作用，不能應用到新一代窄邊框等面板上。而國外做到15次方就有了很好的防靜電作用。這還是我們的光刻膠材料、配方、生產工藝方面存在問題。”李中強說。
關鍵指標達不到要求，國內企業始終受制于人。就拿在國際上具有一定競爭實力的京東方來說，目前已建立17個面板顯示生產基地，其中，有16個已經投產。但京東方用于面板的光刻膠，仍然由國外企業提供。
NR9-3000PYNR9 1500PY光刻膠報價
四、前烘（Soft Bake）
完成光刻膠的涂抹之后，需要進行軟烘干操作，這一步驟也被稱為前烘。前烘能夠蒸發光刻膠中的溶劑溶劑、能使涂覆的光刻膠更薄。
在液態的光刻膠中，溶劑成分占65％－85％。雖然在甩膠之后，液態的光刻膠已經成為固態的薄膜，但仍有10％－30％的溶劑，容易沾污灰塵。通過在較高溫度下進行烘培，可以使溶劑從光刻膠中揮發出來（前烘后溶劑含量降至5％左右），從而降低了灰塵的沾污。同時，這一步驟還可以減輕因高速旋轉形成的薄膜應力，從而提高光刻膠 襯底上的附著性。下游發展趨勢光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。
在前烘過程中，由于溶劑揮發，光刻膠厚度也會減薄，一般減薄的幅度為10％－20％左右。
光刻膠
光刻膠由光引發劑、樹脂、溶劑等基礎組分組成，又被稱為光致抗蝕劑，這是一種對光非常敏感的化合物。此外，光刻膠中還會添加光增感劑、光致產酸劑等成分來達到提高光引發效率、優化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在顯影液中的溶解度會發生變化。超過80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中，國內公司中，蘇州瑞紅與北京科華實現了部分品種的國產化，但是整體技術水平較低，僅能進入8英寸集成電路生產線與LED等產線。
分類
根據光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
曝光前對顯影液不可溶，而曝光后變成了可溶的，能得到與掩模板遮光區相同的圖形。
優點：分辨率高、對比度好。
缺點：粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度：曝光區域光刻膠完全溶解時所需的能量
負膠egative
Photo Resist）
與正膠反之。
優點： 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點： 顯影時發生變形和膨脹，導致其分辨率。
靈敏度：保留曝光區域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
光刻膠組分及功能
光引發劑
光引發劑吸收光能（輻射能）后經激發生成活性中間體，并進一步引發聚合反應或其他化學反應，是光刻膠的關鍵組分，對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用。
樹脂
光刻膠的基本骨架，是其中占比較大的組分，主要決定曝光后光刻膠的基本性能，包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前后對溶劑溶解度的變化程度、光學性能、耐老化性、耐蝕刻性、熱穩定性等。
溶劑
溶解各組分，是后續聚合反應的介質，另外可調節成膜。
單體
含有可聚合官能團的小分子，也稱之為活性稀釋劑，一般參加光固化反應，可降低光固化體系粘度并調節光固化材料的各種性能。
