鎂合金微弧氧化技術廠家電話

微弧氧化技術特點

（1）大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；

（2）良好的耐磨損性能；

（3）反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。

（4）基體原位生長陶瓷膜，結合牢固，陶瓷膜致密均勻。微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

       微弧氧化技術是近年來發展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場作用下的放電火花燒結，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫熱蝕以及改善其耐磨性等。2、電壓過低，成工業鋁型材速度小，工業鋁型材層薄，工業鋁型材顏色淺，硬度也低。

微弧氧化的特點

1、微弧氧化可以一次完成，也可以分幾次完成。特別對于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始。

2、在陽極氧化不易成膜的某些鋁合金如Al-Cu、Al-Si等合金表面，同樣可獲得性能很好的厚膜，尤其在Al-Cu合金表面（如Ly12合金），可以形成高硬度的厚膜，HV可達到1600以上。現在國內的大部分脈沖電源都是采用兩個相互獨立的電源進行疊加而組成的，在兩個電源之間加上切換裝置、控制正負脈沖電流的截止和導通。微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化電源

微弧氧化

       微弧氧化，是在電解質溶液中（一般是弱堿性溶液）施加高電壓（直流、交流或脈沖）在材料表面原位生長陶瓷氧化膜的過程，該過程是物理放電與電化學氧化、等離子體氧化協同作用的結果。微弧氧化過程在微弧氧化處理過程中，待氧化試樣與電源正極相連，作為陽極浸入電解液之中，不銹鋼電解槽作為陰極與電源負極相連。微弧氧化技術是在普通陽極氧化技術的基礎上發展起來的，進一步提高電壓，使電壓超出法拉第區，達到氧化膜的擊穿電壓，就會在陽極出現火花放電現象，在材料表面形成陶瓷氧化膜，使等離子體氧化膜既有陶瓷膜的，又保持了陽極氧化膜與基體的結合力。