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發布時間:2020-11-07 12:26  





減薄機主要特點
減薄機主要特點:
1、吸盤根據客戶的工藝要求可分為電磁吸盤和真空吸盤,吸盤大小可根據客戶需求定制,直徑320-600mm。。
2、砂輪主軸采用精密的高速旋轉電主軸,驅動方式為變頻調速轉速可以根據不同的工藝要求由PLC控制系統支持的驅動模式而相應改變轉速3000-8000轉可調。
3、砂輪進給模式分三段設置,能更方便地設置有效的減薄方案,提高減薄后的精密度和表面效果,
4、對刀方式在不改變砂輪和吸盤的情況下,針對不同厚度的工件只需要一次對刀就可以連續工作,不需要每次都要對刀。
5、本機采用高精密絲桿及導軌組件,驅動方式是伺服驅動,可根據不同材質的工件及工藝要求由PLC控制的驅動模式而相應的改變絲桿的轉速,也就是砂輪的進刀速度,速度0.001-5mm/min可調,控制進給精度由高分辨率光柵尺檢測。
6、本機采用先進的臺灣品牌PLC和觸摸屏,自動化程度高,實現人機對話,操作簡單一目了然。
7、設備可檢測磨削扭力、自動調節工件磨削速度,從而防止工件磨削過程中因壓力過大產生變形及破損,自動補償砂輪磨損厚度尺寸,可使直徑150晶片厚度減薄到0.08mm厚而不會破碎。而且平行度與平面度可控制在±0.002mm范圍內。
8.減薄,LED藍寶石襯底每分鐘磨削速度高可減薄48微米。硅片每分鐘磨削速度高可減薄250微米。
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立式減薄機IVG-200S
設備概述:
名稱: 立式減薄機
型號: IVG-200S
該設備采用立式主軸結構,工作時磨盤與工件盤同時旋轉,磨盤的進給采用微米步進電機進給系統,磨盤采用杯式金剛石磨盤,不但加工精度高,而且加工效率很高,為普通研磨效率的10倍以上。該系列設備廣泛應用各類半導體晶片、壓電晶體、光學玻璃、陶瓷、藍寶石襯底、FDD表面、電子過濾器、碳化硅等材料的超精密平面加工。
立式減薄機IVG-200S設備特點
1.操作簡單
該設備采用PLC控制系統,通過簡單的培訓,操作者即可在液晶顯示屏友好界面的引導下,熟練操作設備。當設備出現故障時, 屏幕向導會提示出錯編碼,易于排除故障。
2.設計安全
該設備的設計處處為使用者的安全著想,保證操作加工的安全。
3.保證精度
磨盤的進給采用微米步進電機進給系統,保證長時間的加工精度。
4.各輪獨立驅動
磨盤及工件盤均采用獨立的電機,分別采用變頻或伺服控制,轉速可任意調整,且控制簡便。
5.冷卻水循環使用
冷卻水箱配有雜質過濾系統,冷卻水可循環使用,即節約成本,又減少了對環境的環境。一臺冷卻水箱可同時連接多臺設備。
