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              真空鍍膜系統(tǒng)廠家免費咨詢

              【廣告】

              發(fā)布時間:2020-07-24 02:09  






              ST系列鍍膜機

              ST系列鍍膜機系我司標準化產(chǎn)品,滿足大部分實驗室科研需求,豐富的可選配置也可響應您的特殊需要。特點:1、集成一體化結構。

              2、極限真空度高,可達7×10-5Pa,可保證更高的鍍膜純凈度,提高鍍膜質(zhì)量。

              3、從大氣到工作背景真空(7×10-4Pa)時間短,30分鐘左右(充干燥氮氣)。 系統(tǒng)停泵關機12小時后真空度:≤8Pa。

              4、整機采用柜式結構,密封性能好,防塵防水,安全。

              5、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選。

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              真空抽不上去的原因

              1、漏率偏高就是我們通常所說的漏氣;.

              2、真空機組的抽氣能力不夠了,油被污染或氧化了:

              3、真空室內(nèi)太臟放氣;

              4、真空室內(nèi)有漏水;

              5、真空管道有漏氣;.

              6、或者是以上幾種可能都有。

              出現(xiàn)問題首先是要判斷,是不是拆卸過東西,是不是漏水?閥門打開了嗎?根據(jù)現(xiàn)象判斷原因,然后再去根據(jù)判斷找問題,可能會收到事半功倍的效果。

              養(yǎng)成良好的衛(wèi)生習慣

              相比以前我們廠的設備是灰塵滿面、油漬不堪。也許很多人都認為,設備只要正常運轉就可以了,搞得再干凈也是做表面工作。我可是這樣認為的,一個人連表面工作都作不來,那真的還有內(nèi)在、實在的工作嗎?如需了解更多真空鍍膜的相關信息,歡迎關注艾明坷網(wǎng)站或撥打圖片上的電話詢。當然設備和設備周圍的灰塵、油污對設備的本身的影響也是相當之大的。灰塵能產(chǎn)生靜電,損壞電子元件;油污能使電線、水管硬化開裂,造成一些意想不到的問題出現(xiàn)。特別我們使

              用的真空設備,還有它本身的特殊性。真空設備講究的是-一個真空清潔度,真空清潔度越差,放氣性就越大。這樣使設備抽到較高的真空度所需的時間就越長。

              或者根本就無法抽到。這樣一來就減少我們的產(chǎn)量,二來影響到了我們的產(chǎn)品的質(zhì)量。




              現(xiàn)代真空鍍膜機膜厚測量及監(jiān)控方法

              涂層的鍍膜機控制方法是直接的石英晶體微天平(QCM)的方法,該儀器可以直接驅(qū)動的蒸發(fā)源,通過PID控制回路傳動擋板,使蒸發(fā)率。只要儀器和系統(tǒng)控制軟件的連接,它可以控制涂層的全過程。但(QCM)的準確性是有限的,鍍膜機部分原因是其監(jiān)測代替光學厚度的涂層質(zhì)量。厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。

              此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對溫度很敏感。在長時間的加熱過程中,鍍膜機很難避免傳感器為敏感的區(qū)域,導致薄膜的重大錯誤。 光學監(jiān)測是一種涂層優(yōu)選的監(jiān)控模式,鍍膜機這是因為它能準確控制膜的厚度(如果使用得當)。

              精度的提高,由于許多因素,但根本的原因是光學厚度的監(jiān)測。optimalswa-i-05單一波長的光學監(jiān)測系統(tǒng),是間接控制,鍍膜機先進的光學監(jiān)測軟件結合王博士的發(fā)展,有效地改善和靈敏度變化的光反應的膜厚度的減少終的誤差的理論方法,提供監(jiān)測波長的反饋或傳輸模式的選擇和廣泛的。特別適用于涂布各種薄膜厚度監(jiān)控包括不規(guī)則的膜。發(fā)現(xiàn)機械泵的油少了就要添加,不要認為這油是定期更換的,等到了時間再維護,到時候可能泵的轉子就會磨損嚴重了。



              常見的真空鍍膜材料


              氧化物一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3,氧化鋅ZnO等高純氧化物鍍膜材料。

              其它化合物硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫1化鎘CdS等真空鍍膜材料。

              金屬鍍膜材料高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合金AlSi等金屬鍍膜材料。在離子鍍技術中,由于給工件施加負偏壓,可以形成“偽擴散層”、細化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。 



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