北京光學鍍膜設備價格合理

真空鍍膜機濺射工藝

真空鍍膜機濺射工藝主要用于真空鍍膜機濺射刻蝕和薄膜沉積兩個方面。濺射刻蝕時，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進行刻蝕。刻蝕速率與靶極材料的濺射產額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關。真空鍍膜機濺射刻蝕時，應盡可能從真空鍍膜機濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應氣體，使之與濺出的靶極原子反應生成揮發性氣體，通過真空系統從濺射室中排出。沉積薄膜時，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發生濺射。如果靶材是單質的，則在襯底上生成靶極物質的單質薄膜；若在濺射室內有意識地引入反應氣體，使之與濺出的靶材原子發生化學反應而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發原子高出1～2個數量級，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發為佳。

若在濺射時襯底加適當的偏壓，可以兼顧襯底的清潔處理，這對生成薄膜的臺階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機濺射法可以制備不能用蒸發工藝制備的高熔點、低蒸氣壓物質膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應用于表面分析儀器中，對樣品進行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機濺射也稱輝光放電濺射。產生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區。靶極表面必須是一個高的負電位，正離子被此電場加速后獲得動能轟擊靶極產生濺射，同時不可避免地發生電子對襯底的轟擊。

鍍膜機能鍍出不同顏色的不銹鋼產品嗎

不同的顏色，用不同的工藝和不同的耙材，比如常見的槍色，我們一般選擇用鈦耙或者鉻耙，鈦耙做出來的顏色老，鉻耙做出來的顏色嫩，黑色的我們一般用鈦柱耙或者鉻柱耙。

如果膜層出來掉色的現象，個分析工藝是否正確，第二個分析前處理清洗是否徹底，純水值是否達到標準要求，第三個分析真空爐是否有泄漏。原因大概就這三個。如果顏色出現變色，分析掛具的產品是否在有效的濺射范圍內，第二分析工藝是否應該調整。

退鍍這一塊也是根據不同的工藝，偏壓的大小，不同的耙材所鍍的顏色來分析應該如何來正確的退鍍，用鈦耙鍍出來的顏色。

鍍膜的工藝種類有哪些不同點？

水電鍍：一般適用于ABS料、ABS PC料的產品。主要工藝是將需電鍍的產品放入化學電鍍液中進行電鍍。依據客戶的不同需求，可鍍成不同的色彩，與高光銀色、亞銀色、灰銀，槍色，金色，黑鉻色，半光鉻。因為電鍍后的產品其導電性顯著增強，關于某些需絕緣的部件怎么辦？

方法有兩種：其一，在需絕緣的部位涂上絕緣油，該部位在電鍍時就不會被電鍍到，然后到達絕緣作用！當然，涂了絕緣油的部位會變黑，就不適合作為外觀面了。其二，在需電鍍的部位用特別的膠紙貼住，維護起來，同樣到達絕緣的作用。

AF光學鍍膜機

裝飾性：無論對于手機等數碼產品，還是電器、衛浴等有相同裝飾性要求的產品，通過底層鍍制顏色膜和透明介質多層膜實現多種色彩、色調和金屬光澤，并能配合絲印、熱轉印、鐳雕和拉絲工藝，得到多種色調的炫彩光澤，加強條紋和圖案的立體視覺。

膜層系列：AF防指印膜層、顏色膜 AF：品質：擦傷測試及水滴角指標：初始水滴角115-120度，擦傷測試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、摩擦次數2000次）后，滴角108-116度。表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。