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、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時間來控制；

3、材料本身：產地、厚度、規格、內部構成化學元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿足市面常規（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復雜、的顏色；

5、不同的加工環境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會對鍍鈦結果產生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業技術上的一個瓶頸。

鍍層附著性能好

普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。其缺點是：1）工藝比傳統單色PVD的更為復雜，流程更為繁雜，生產難度高。而離子鍍時，離子高速轟擊工件時，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生,可見附著多么牢固，膜層均勻，致密。

濺射技術:

濺射技術按產生等離子體的方式可分為:

a. 利用直流輝光放電的二極濺射;

b. 利用熱絲弧光放電的三極濺射;

c. 利用射頻放電的射頻濺射;

d. 利用封閉跑道磁場控制輝光放電的磁控濺射.

2 磁控濺射陰極結構:

目前工業用磁控濺射裝置主要是采用矩形平面磁控濺射陰極(圖a),一般使用的靶材尺寸有兩種規格: VT機:長×寬×厚(450.5×120×6)mm; ZCK機: 460×100×6.圓柱形磁控濺射陰極也逐步運用到生產當中(圖b),兩者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.