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發(fā)布時(shí)間：2021-07-29 15:57
NR77-25000PNR9 3000P光刻膠報(bào)價(jià)
NR77-25000P,RD8
品牌
產(chǎn)地
型號(hào)
厚度
曝光
應(yīng)用
加工
特性
Futurrex
美國
NR71-1000PY
0.7μm~2.1μm
高溫耐受
用于i線曝光的負(fù)膠
LEDOLED、
顯示器、
MEMS、
封裝、
生物芯片等
金屬和介電
質(zhì)上圖案化，
不必使用RIE
加工器件的永
組成
（OLED顯示
器上的間隔
區(qū)）凸點(diǎn)、
互連、空中
連接微通道
顯影時(shí)形成光刻膠倒
梯形結(jié)構(gòu)
厚度范圍：
0.5～20.0 μm
i、g和h線曝光波長
對生產(chǎn)效率的影響：
金屬和介電質(zhì)圖案化
時(shí)省去干法刻蝕加工
不需要雙層膠技術(shù)
NR71-1500PY
1.3μm~3.1μm
NR71-3000PY
2.8μm～6.3μm
NR71-6000PY
5.7μm~12.2μm
NR9-100PY
粘度增強(qiáng)
NR9-1500PY
NR9-3000PY
2.8μm~6.3μm
NR9-6000PY
NR71G-1000PY
負(fù)膠對 g、h線波長的靈敏度
NR71G-1500PY
NR71G-3000PY
NR71G-6000PY
NR9G-100PY
0.7μm～2.1μm
NR9G-1500PY
1.3μm～3.1μm
NR9G-3000PY
NR9G-6000PY
耐熱溫度
PR1-500A
0.4μm～0.9μm
光刻膠
光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎(chǔ)組分組成，又被稱為光致抗蝕劑，這是一種對光非常敏感的化合物。曝光時(shí)間，由光源強(qiáng)度，光刻膠種類，厚度等決定，另外，為降低駐波效應(yīng)影響，可在曝光后需進(jìn)行烘焙，稱為光后烘焙（PEB）。此外，光刻膠中還會(huì)添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來達(dá)到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后，它在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。
分類
根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
曝光前對顯影液不可溶，而曝光后變成了可溶的，能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
優(yōu)點(diǎn)：分辨率高、對比度好。
缺點(diǎn)：粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度：曝光區(qū)域光刻膠完全溶解時(shí)所需的能量
負(fù)膠egative
Photo Resist）
與正膠反之。
優(yōu)點(diǎn)： 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點(diǎn)： 顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹，導(dǎo)致其分辨率。
靈敏度：保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
