磁控濺射臺多重優(yōu)惠

磁控濺射鍍膜設備技術的特點

(1)離子轟擊滲擴更快因為選用低溫等離子無心插柳，為滲劑分子和正離子的吸咐和滲人造就了高寬比活性的表層，提升了結晶中缺點的相對密度，比傳統(tǒng)式的汽體滲擴技術性速率明顯增強。連續(xù)式的磁控濺射生產線總體上可以分為三個部分:前處理,濺射鍍膜,后處理。在一樣加工工藝標準下，滲層深度1在0.05二以內，比汽體滲擴提升1倍。在較高溫度下，1h就能達lmm厚。

(2)對鋼件表層改性材料成效顯著，工藝性能高，真空泵加溫易清除高溫冶煉廠時融解的汽體，并可根據滲人金屬材料更改PCB的機構和構造，使耐磨性能、耐蝕性、強度和斷裂韌性等眾多特性獲得改進。鍍一層薄薄的膜加工工藝中的塑料薄膜薄厚勻稱性，堆積速度，靶材使用率等層面的難題是具體生產制造中非常關心的。而且因為清理功效，使金屬材料粗糙度減少，除去不銹鋼鈍化的殘渣和廢棄物，改進了金屬材料的工藝性能。 

(3)加工工藝適應能力強，有利于解決方式繁雜的鋼件。磁控濺射機械設備是目前汽車玻璃膜生產加工中的專業(yè)性，與前期或現如今一些假劣汽車玻璃膜生產商仍在采用的著色劑與鍍鋁復合性方式來生產加工窗膜的制作工藝有著本質的不同。傳統(tǒng)式的正離子注人技術性的致命性缺點是注人全過程是1個視野全過程，只能曝露在正離子搶口下的鋼件表層能夠被注人，針對鋼件中必須表層改性材料的內表層或管溝表層等，離子束則很難達到，而且一回只有注一人鋼件，注人率低，機器設備繁雜價格昂貴

如需了解更多磁控濺射鍍膜機的相關內容，歡迎撥打圖片上的熱線電話！

鍍膜設備原理及工藝

前處理（清洗工序）

要獲得結合牢固、致密、無針1孔缺陷的膜層, 必須使膜層沉積在清潔、具有一定溫度甚至是的基片上。為此前處理的過程包括機械清洗(打磨、毛刷水洗、去離子水沖洗、冷熱風刀吹凈)、烘烤、輝光等離子體轟擊等。機械清洗的目的是去除基片表面的灰塵和可能殘留的油漬等異物, 并且不含活性離子, 必要時還可采用超聲清洗。烘烤的目的是徹底清除基片表面殘余的水份, 并使基片加熱到一定的溫度, 很多材質在較高的基片溫度下可以增強結合力和膜層的致密性。基片的烘烤可以在真空室外進行, 也可以在真空室內繼續(xù)進行, 以獲得更好的效果。但在真空室內作為提供熱源的電源應有較低的電壓, 否則易于引起放電。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場，利用磁場對帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。輝光等離子體轟擊清洗可以進一步除去基片表面殘留的不利于膜層沉積的成份, 同時可以提高基片表面原子的活性。

想了解更多關于 磁控濺射鍍膜機的相關資訊，請持續(xù)關注本公司。

創(chuàng)世威納——專業(yè)磁控濺射鍍膜設備機供應商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

(1)工件變形小 由于工件表面均勻覆蓋輝光，溫度一致性好，可以通過控制功率輸出來實現均勻升溫。另陰極濺射抵消了滲人元素引起的尺寸擴一大

(2) 滲層的組織和結構易于控制 通過調整工藝參數，可得到單相或多相的滲層組織

(3)工件無須附加清理 陰極濺射可以有效去除氧化膜，凈化工件表面，同時真空處理無新生氧化膜，這些都減少了附加設備和工時，降低了成本。

(4) 防滲方便 不需滲的地方可簡單地遮蔽起來，對環(huán)境無公害，無污染，勞動條件好。

(5) 經濟效益高，能耗小 雖然初始設備投資較大，但工藝成本極低，是一種廉價的工程技術方法。此外，離子轟擊滲擴技術易實現工藝過程或滲層質量的計算機控制，質量重復性好，可操作性強。

磁控濺射鍍膜機的注意事項

1、保持機器內艙各部位的清潔；

2、關注真空度指標；

3、檢查并記錄抽真空的時間，如有延長，立刻檢查造成的原因；

4、記錄濺射功率和時間（一般濺射機的銀靶設定功率為0.6千瓦，金靶的設定功率為0.75千瓦，鉻的行走速率為9000pps），如有異常，立刻檢查造成的原因；

5、根據鍍出石英振子的散差，調整遮擋板的各部尺寸；

6、濺鍍后的石英振子要用3M膠帶檢查其牢固度；

7、測試并記錄鍍好的石英振子主要指標，如：頻率、電阻、DLD等；

8、將不良品挑出：電極錯位、劃傷、臟污、掉銀等（工位上要有不良品示意圖）。

以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多磁控濺射鍍膜設備機的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。