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              河南異形工件鍍膜設(shè)備原理多重優(yōu)惠,北京創(chuàng)世威納

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              發(fā)布時間:2020-10-31 06:11  







              真空電鍍機的保養(yǎng)方法

              1、真空電鍍機每完成兩百次以上的電鍍工作時,應(yīng)對工作室進行一次清潔,清潔的方法主要為用擦洗真空室內(nèi)壁,使內(nèi)壁上的鋁和發(fā)生反應(yīng)脫落并釋放氫氣,而后再用清水清洗一遍,后擦拭其他部位的污垢。

              真空電鍍機維修注意事項

              2、當真空電鍍機的閥門或者泵連續(xù)工作一個月之后,需要對其機油進行更換,如果是在雨季情況下工作,則半個月就應(yīng)更換一次。

              3、如果真空電鍍機的擴散泵連續(xù)使用了半年或者以上,則抽速會明顯變慢,此時應(yīng)當將水管和電爐盤拆下,用將泵內(nèi)清洗一次,在用洗滌劑清洗一次,后用清水再沖洗一次。這樣清洗完畢之后即可等待水份會發(fā)完成再次安裝重新使用。在重新安裝的時候要注意先對設(shè)備進行檢漏。




              真空電鍍機灰塵處理方式

              真空電鍍機應(yīng)用十分廣泛,如今在我們的生活中到處可見,是必不可少的一項技術(shù)。但是真空電鍍機在使用一段時間后,表面就會留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果,那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢?

              我國真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)狀分析

              1.設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

              2.設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問題。

              3.真空鍍膜一段時間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

              4.真空鍍膜清洗襯底材料,必須要做到嚴格合乎工藝要求。

              5.真空鍍膜適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。

              6.工作人員在操作時需要戴手套、腳套等,要有專門的服裝。

              CCZK-ION多弧離子真空鍍膜機(真空電鍍機系列)

              由于灰塵對鍍膜效果會產(chǎn)生比較大的影響,因此為了避免在真空電鍍機中留下灰塵,應(yīng)該在使用中注意以上幾點來盡量避免,除此也要注意經(jīng)常清洗,避免灰塵越積越多。




              真空電鍍機作業(yè)指導手冊真空電鍍機作業(yè)指導手冊

              1.開機前檢查水路是否暢通.

              2.檢查氣路是否暢通.

              3.開啟電源,打開”維持泵”開關(guān),并觀查機器各部位是否運行順暢.

              4.進入加熱過程.

              溫州真空電鍍機價格5.完成加熱后進入生產(chǎn)狀態(tài).

              6.生產(chǎn)時在關(guān)倉門前,檢查物料擺放是否符合要求,卻保不會碰撞.

              7.生產(chǎn)過程中隨時觀查各部們運行情況及顯示屏和各種參數(shù)指標.

              8.工藝完成后,要輕開倉門,手拉倉門直至停穩(wěn).

              9.停機時將真空門吸合,抽至一定的真空,關(guān)閉除”停機”外所有開關(guān).

              10.待真空電鍍機冷卻至所需溫度時,方可關(guān)閉電源,空壓機,冷確塔,維持泵.




              主要的鍍膜濺射方式有哪些?

              磁控濺射鍍膜設(shè)備在目前鍍膜行業(yè)中是一種不可缺少的鍍膜器材,目前大部分鍍膜企業(yè)都會有使用到。我們平日生產(chǎn)的時候都是由機器生產(chǎn),那么大家知道目前的磁控鍍膜設(shè)備主要的濺射方式有哪幾種么?下面小編就來給大家講講磁控鍍膜設(shè)備的濺射方式。

              磁控濺射鍍膜設(shè)備原理解析

              主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備可以根據(jù)其特征分為以下四種:(1)直流濺射;(2)射頻濺射;(3)磁控濺射;(4)反應(yīng)濺射.另外,利用各種離子束源也可以實現(xiàn)薄膜的濺射沉積.

              現(xiàn)在的直流濺射(也叫二級濺射)較少用到,原因是濺射氣壓較高,電壓較高,濺射速率小,膜層不穩(wěn)定等缺點.

              直流濺射發(fā)展后期,人們在其表面加上一定磁場,磁場束縛住自由電子后,以上缺點均有所改善,也是現(xiàn)階段廣泛應(yīng)用的一種濺射方法.

              CCZK-SF磁控濺射鍍膜設(shè)備

              而后又有中頻濺射,提高了陰極發(fā)電速率,不易造成放電、靶材等現(xiàn)象.

              而射頻濺射是很高頻率下對靶材的濺射,不易放電、靶材可任選金屬或者陶瓷等材料.沉積的膜層致密,附著力良好.

              如果尋找本質(zhì)區(qū)別是:直流濺射是氣體放電的前期,而射頻是后期,我們常見的射頻是電焊機.濺射過程所用設(shè)備的區(qū)別就是電源的區(qū)別.

              以上就是主要的磁控濺射鍍膜設(shè)備的濺射方式,希望本文能夠讓用戶對設(shè)備更加了解。




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