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鍍膜機廠家介紹光學監控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監控方法較多，目前較新的方法是光學監控法，其相對于的傳統的石英晶體微量平衡法來說，光學監控法更具有準確性，因為傳統的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監控法的特點。

光學監控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，光學監控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。能夠更準確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監控相比傳統的監控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監測方法。

真空離子鍍膜機的自動化發展

真空離子鍍膜機是太陽能真空管生產的關鍵設備，隨著自動化技術的發展，其工藝要求及自動化程度也越來越高。

開始的真空離子鍍膜機控制系統采用繼電器控制，由模擬線路板及單片機等電路組成實現控制功能，因線路繁雜以及電子元器件的不穩定造成設備性能的不穩定，并且給維修工作帶來很大困難，另外操作界面不直觀，誤操作現象時有發生。

目前，真空離子鍍膜機已廣泛采用PLC可編程器設計控制系統，該技術已相當成熟，基本取代了單片機，并采用先進的人機界面觸摸屏進行更加直觀的人機對話，可方便地設定參數，由控制系統按工藝流程分步或自動運行，具有各種系統保護以及故障提示、報警信息等功能，并且通過利用PLC通訊功能，與上位機通訊，實現對真空離子鍍膜機工藝流程的全程監控，以便工程師及時發現并處理故障信息以及遠程修改工藝參數等，較大地方便了生產過程質量控制和管理。

磁控濺射鍍膜設備濺射方式

清洗過程簡化

現有鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個鍍膜過程。清洗效果較好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著力，簡化了大量的鍍前清洗工作。

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