塑料反光杯鍍膜訂做擇優推薦 錦城鍍膜

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鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：

本底真空度: 本底真空度越高爐內雜氣量(包括水氣)越少,這保證鍍膜時反應氣體的純度,從而保證膜層顏色的純正和光澤鮮亮。一般本底真空應該進入5-7*10-3。

電子束蒸發源蒸鍍法

將蒸發材料放入水冷銅坩鍋中，直接利用電子束加熱，使蒸發材料氣化蒸發后凝結在基板表面成膜，是真空蒸發鍍膜技術中的一種重要的加熱方法和發展方向。電子束蒸發克服了一般電阻加熱蒸發的許多缺點，特別適合制作熔點薄膜材料和高純薄膜材料。

真空鍍膜：一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術用于生產激光唱片（光盤）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。

反應濺射就是在反應氣體環境中鍍膜，濺射過程中靶材會與濺射氣體發生化學反應。反應濺射一般沉積不導電的膜層，例如：Snox,ZnOx,Siox,SiNx等。在反應濺射系統中，一般都加入Ar加速反應速度，即提高濺射速率。在反應濺射氣氛中，加入工作氣體越多，濺射速率越高，當加入的工作氣體過多時，反應氣體來不急將所有濺射出來的原子反應掉，膜層內就會含有金屬，我們把這種狀態叫翻轉。在反應濺射過程中，無論翻轉與正常狀態，靶的濺射速率都沒有不反應濺射速率高。因此不反應濺射所使用的氣體為惰性氣體，一般使用y氣（Ar），稱為工作氣體。