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放置時間變化：水真空光油上光油屬不結膜物，像食用油一樣，長時間放置表面不會結皮。將少量上光油置于玻璃片表面，在蔽光處放置24h后觀察有無結皮現象。不結皮說明是真空電鍍uv光油，否則是假的水性UV底油油。測溶劑含量：將上光油置入帶刻度器皿內（直徑小于50mm），放置紙12h，觀察揮發了多少。一般看不到表面位置的下降。若明顯觀察出下降，說明上光油內溶劑過多，是原有光油添加過稀釋劑的劣質產品。

真空鍍膜磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點：利用磁場與電子交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運

行，從而增大電子撞擊亞氣產生離子的概率。所產生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。

在近幾十年的發展中，大家逐漸采用長久磁鐵，很少用線圈磁鐵。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結合力強。平衡靶源多用于半導體光學膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。

在顯示器件方面，錄象磁頭、高密度錄象帶以及平面顯示裝置的透明導電膜、攝像管光導膜、顯示管熒光屏的鋁襯等也都是采用真空鍍膜法制備。

在元件方面，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。

二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛合磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區域內，該區域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動，現在加上中頻磁控濺射靶用磁控射靶將膜體的蒸發分子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，解決了過去自然蒸發無法加工的膜體品種，如鍍鈦鍍錯等等。