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              臺(tái)式磁控濺射儀供應(yīng)信賴推薦“本信息長(zhǎng)期有效”

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              發(fā)布時(shí)間:2020-11-10 10:49  






              小型自動(dòng)磁控濺射儀

              沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)磁控濺射產(chǎn)品供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

              1. 濺射室極限真空度:≤6.6×10-6 Pa

              2. 系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0×10-7Pa.l/S

              3. 系統(tǒng)從大氣開始抽氣:濺射室30分鐘可達(dá)到6.6×10-4 Pa;

              4. 系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后真空度:≤5Pa

              5. 濺射真空室1套,立式上開蓋結(jié)構(gòu),尺寸不小于Ф300mm×300mm,全不銹鋼結(jié)構(gòu),弧焊接,表面進(jìn)行電化學(xué)拋光,內(nèi)含防污內(nèi)襯,可內(nèi)烘烤到100~150℃,接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封,腔體內(nèi)有照明系統(tǒng)

              6. 磁控濺射系統(tǒng) 3套, 提供3塊測(cè)試靶材。鍍膜不均勻度≤5%

              7. 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) 1套,樣品臺(tái)可放置不小于100mm樣品1片,具有連續(xù)旋轉(zhuǎn)功能,旋轉(zhuǎn)0—30轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)?;訜釡囟龋菏覝亍?00°C連續(xù)可調(diào),由熱電偶閉環(huán)反饋控制,加熱電源配備控溫表,控溫方式為PID自動(dòng)控溫及數(shù)字顯示

              8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套

              9. 工作氣路1套,包含:100SCCM、20SCCM質(zhì)量流量控制器、CF16截止閥、管路、接頭等共2路; DN16充氣閥、管路、接頭等2路;

              10. 抽氣機(jī)組及閥門、管道 1套,包含1臺(tái)進(jìn)口復(fù)合分子泵及變頻控制電源(680L/s ,德國(guó)普發(fā)Hipace700分子泵);并且均勻性這個(gè)概念本身也會(huì)隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。1臺(tái)機(jī)械泵(4L/S) ,1臺(tái)DN40氣動(dòng)截止閥,機(jī)械泵與真空室之間的旁抽管路1套,CC150氣動(dòng)閘板閥1臺(tái)(用于復(fù)合分子泵與真空室隔離),節(jié)流閥1臺(tái),DN40旁抽氣閥1臺(tái),壓差式充氣閥1臺(tái);管道采用不銹鋼三通及波紋管,

              11. 安裝機(jī)臺(tái)架組件 1套,由方鋼型材焊接成,快卸圍板表面噴塑處理,機(jī)臺(tái)表面用不銹鋼蒙皮裝飾,四只腳輪,可固定,可移動(dòng)。



              雙室磁控濺射系統(tǒng)

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              設(shè)備簡(jiǎn)介

              主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單緊湊易于操作,對(duì)實(shí)驗(yàn)室供電要求低;該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國(guó)內(nèi)最優(yōu)的配置,從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性;另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇,可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置,比較靈活;標(biāo)配4只Φ2英寸永磁靶,4臺(tái)500W直流濺射電源,主要用來開發(fā)納米級(jí)單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。新電子飛向基片,Ar離子在電場(chǎng)作用下加速飛向陰極靶,并以高能量轟擊靶表面,使靶材發(fā)生濺射。



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