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              微弧氧化技術優點源頭好貨 日照微弧氧化電源

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              發布時間:2020-07-21 05:09  






              溫度對微弧氧化的影響

                     微弧氧化與陽極氧化不同,所需溫度范圍較寬。一般為10—90度。溫度越高,成膜越快,但粗糙度也增加。且溫度高,會形成水氣。一般建議在20—60度。由于微弧氧化以熱能形式釋放,所以液體溫度上升較快,微弧氧化過程須配備容量較大的熱交換制冷系統以控制槽液溫度。所以微弧氧化過程中一定要控制好溫度。但是,這樣不但使電源結構復雜化,同時也增加了控制電路的負擔,使電源成本增加。微弧、微弧氧化、微弧氧化技術、微弧氧化電源


              微弧氧化為什么要進行預處理

                    鋁、鎂、鐵等輕金屬進行微弧氧化處理,需要進行預處理,是因為長期露在空氣中表面易發生氧化,容易形成一層鈍化膜,同時,鋁、鎂、鈦等輕金屬容易吸附一些雜志,為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能,所以給鋁、鎂、鈦等輕金屬進行微弧氧化前進行預處理是很有必要的,是為了保證微弧氧化的效果。微弧氧化技術為提高鋁材料的表面性能,常用的方法有電鍍,激光,陽極氧化等,其中微弧氧化技術是基于陽極氧化發展起來的一種先進的表面強化處理技術。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化技術原理、微弧氧化工藝

                


              微弧氧化技術原理

                     將工件(鋁、鎂、鈦、鋯及其合金)和不銹鋼(或石墨)板置于電解質水溶液中,工件接電源正極,不銹鋼(或石墨)板接電源負極,電源接通后工件表面發生陽極鈍化生成高阻kang氧化膜,隨著氧化膜增厚以及外加電壓的不斷增加,高電場強度使得氧化膜內部及表面電荷積累變得嚴重。固體絕緣材料中空間電荷的存在使得原來的電場發生畸變,使局部電場加強,導致氧化膜擊穿,產生火花放電。當氧化膜被擊穿后,就會形成基體金屬離子和溶液中活性氧離子等物質擴散轉移的通道,基體金屬離子和氧離子,在電化學、熱化學和等離子體化學的共同作用下,生成氧化物陶瓷。還可采用不同的電解液對同一工件進行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質的陶瓷氧化膜層。


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