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發布時間:2020-11-02 11:59  
實際曝光bai能量需根據干膜種類、厚度du或油墨種類/厚度/烘烤時間確定,正常線路曝光使zhi用能量40 -- 120mj/cm2,油墨曝光能dao量150-500mJ/cm2,具體以曝光尺為準;線路曝光尺5 --8格,油墨的曝光尺做到9--13格。
曝光時必須抽真空充分,以免曝光不良,一般要求650mmHg以上真空度;
顯影時,顯影點控制在50 --70%以內,壓力1.5--2.0kg/cm2。
曝光過度會導致顯影不凈;曝光能量不足會導致顯影過度。
在感光科學中,鹵化銀的顯影過程可分為化學顯影和物理顯影兩大類.二者的區別在于:在化學顯影過程中,銀離子是來自于鹵化銀晶格,催化銀離子還原的是鹵化銀晶體曝光后產生的潛影中心,顯影之后得到絲狀金屬銀;而在物理顯影過程中,銀離子是以絡合離子的形式存在于溶液中,絡合銀離子與顯影劑在物理顯影核(重金屬硫化物或重金屬膠體粒子)的催化下發生氧化還原反應,生成的金屬銀沉積在物理顯影核的表面,一般呈顆粒狀.