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              發(fā)布時間:2020-11-09 12:42  






              光刻膠市場

              全球光刻膠市場擴增,對光刻膠的總需求不斷提升。將帶有光刻膠層的半導體結(jié)構(gòu)置于去膠機內(nèi),在射頻電壓的能量的作用下,灰化氣體被解離為等離子體。據(jù)估計,2015年國際光刻膠市場達73.6億美元,其中PCB光刻膠占比24.5%,LCD光刻膠占26.6%,半導體光刻膠占比24.1%。2010年到2015年期間,國際光刻膠市場年復合增長率約為5.8%;據(jù)中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù),2015年,PCB光刻膠、LCD光刻膠和半導體光刻膠的國際市場增速均在5%左右。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動下,江瀚咨詢預計國際光刻膠市場規(guī)模在2022年可能突破100億美元。


              全球市場

              目前,光刻膠單一產(chǎn)品市場規(guī)模與海外巨頭公司營收規(guī)模相比較小,光刻膠僅為大型材料廠商的子業(yè)務。但由于光刻膠技術(shù)門檻高,就某一光刻膠子行業(yè)而言,僅有少數(shù)幾家供應商有產(chǎn)品供應。

              由于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)要求較高,中國光刻膠市場基本由外資企業(yè)占據(jù),國內(nèi)企業(yè)市場份額不足40%,高分辨率的KrF和ArF光刻膠,其核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷,產(chǎn)品也基本出自日本和美國公司,包括陶氏化學、JSR株式會社、信越化學、東京應化工業(yè)、Fujifilm,以及韓國東進等企業(yè)。3.你們是否有可以替代ShipleyS1805的用于DVD的應用產(chǎn)品。

              而細化到半導體用光刻膠市場,國內(nèi)企業(yè)份額不足30%,與國際水平存在較大差距。中國在2020年PCB產(chǎn)值有望達到311億美元,在2015-2020年期間,年復合增長率略高于國際市場,為3。超過80%市場份額掌握在日本住友、TOK、美國陶氏、美國futurrex等公司手中,國內(nèi)公司中,蘇州瑞紅與北京科華實現(xiàn)了部分品種的國產(chǎn)化,但是整體技術(shù)水平較低,僅能進入8英寸集成電路生產(chǎn)線與LED等產(chǎn)線。


              發(fā)展

              Futurrex在開發(fā)產(chǎn)品方面已經(jīng)有很長的歷史

              我們的客戶一直在同我們共同合作,創(chuàng)造出了很多強勢的專利產(chǎn)品。

              在晶體管(transistor) ,封裝,微機電。顯示器,OLEDs,波導(waveguides) ,VCSELS,

              成像,電鍍,納米碳管,微流體,芯片倒裝等方面。我們都已經(jīng)取得一系列的技術(shù)突破。

              目前Futurrex有數(shù)百個專利技術(shù)在美國專利商標局備案。

              Futurrex 產(chǎn)品目錄

              正性光刻膠

              增強粘附性正性光刻膠

              負性光刻膠

              增強粘附性負性光刻膠

              先進工藝負性光刻膠

              用于lift-off工藝的負性光刻膠

              非光刻涂層

              平坦化,保護、粘接涂層

              氧化硅旋涂(spin-on glas)

              摻雜層旋涂

              輔助化學品

              邊膠清洗液

              顯影液

              去膠液

              Futurrex所有光刻產(chǎn)品均無需加增粘劑(HMDS)


              光刻膠

              光刻膠組分及功能

              光引發(fā)劑

              光引發(fā)劑吸收光能(輻射能)后經(jīng)激發(fā)生成活性中間體,并進一步引發(fā)聚合反應或其他化學反應,是光刻膠的關鍵組分,對光刻膠的感光度、分辨率等起決定性作用。

              樹脂

              光刻膠的基本骨架,是其中占比較大的組分,主要決定曝光后光刻膠的基本性能,包括硬度、柔韌性、附著力、曝光前后對溶劑溶解度的變化程度、光學性能、耐老化性、耐蝕刻性、熱穩(wěn)定性等。

              溶劑

              溶解各組分,是后續(xù)聚合反應的介質(zhì),另外可調(diào)節(jié)成膜。

              單體

              含有可聚合官能團的小分子,也稱之為活性稀釋劑,一般參加光固化反應,可降低光固化體系粘度并調(diào)節(jié)光固化材料的各種性能。


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