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顯影：顯影是在印刷、影印、復印、曬圖等行業中，讓影像顯現的一個過程。通過堿液作用，將未發生光聚合反應之感光材料部分沖掉。顯影包括正顯影和反轉顯影。英文中的蝕刻一詞“Etching”源自于古日耳曼語“吃”，是指利用帶有腐蝕性的酸將圖案“啃”入堅硬的金屬表面。蝕刻被廣泛運用于輕奢品，特別是像這樣本身就是堅久耐用的物品。該技術能在金屬表面創造出具有高度裝飾性的淺浮雕，而又不影響其結構的完整性。


正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。反轉顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。


顯影液的成分與功能.一般顯影液由顯影劑、保護劑、促進劑和抑zhi制劑組成.顯影劑 米妥爾：顯影速度快,反差小,受溫度影響小.對本二酚：顯影緩和,反差大,受溫度影響大.菲尼酮：損耗低,用量小,易保存,易產生灰霧.保護劑：無水亞硫酸鈉 在顯影液中Na2SO先與氧氣化合,防止了顯影劑的氧化,且有溶解銀鹽的的作用,有微粒效果.促進劑：無水碳酸鈉.在顯影中它能產生酸性物質xiu氫酸,起到妨礙顯影劑的作用,故用Na 2SO 3增加堿性.


因外層一般需二次鍍銅，外層所用底片剛好與內層相反,底片為正片。顯影后，把尚未發生聚合反應的區域用顯像液將之沖洗掉,已感光部分則因已發生聚合反應而洗不掉而留在銅面上成為蝕刻或電鍍之阻劑膜，將顯影后的露銅面的厚度加后,以達到客戶所要求的銅厚，在鍍完二次銅的表面鍍上一層錫保護，做為蝕刻時的保護劑。將抗電鍍用途之干膜以藥剝除，將非導體部分的銅蝕掉。將導體部分的起保護作用之錫剝除，留下的就是線路圖形。