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蒸發真空鍍膜機的原理及性能,你了解多少?

電鍍設備真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以保證膜層厚度的均勻性。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。排氣系統一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。目前所用的蒸發源主要有電阻加熱、電子束加熱、感應加熱、電弧加熱和激光加熱等多種形式。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。薄膜厚度可由數百埃至數微米。

為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經常采用的運動方式。蒸發鍍膜機主要由真空室、排氣系統、蒸發系統和電氣設備四部分組成。

蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等片置于坩堝前方。通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。電氣設備包括測量真空和膜層厚度及控制臺等。因此，排氣系統既要求在較短的時間內獲得低氣壓以保證快速的工作循環，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發源和工作物表面所產生的氣體。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。蒸發式真空鍍膜機常用蒸發源是用來加熱膜材使之汽化蒸發的裝置。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼制作，有水冷卻裝置。待系統抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發系統包括蒸發源和加熱蒸發源的電氣設備。

瓷磚真空鍍膜設備

經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高，可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層。瓷磚真空鍍膜設備主要用于瓷磚、瓷片、陶瓷磚等離子鍍膜。該系列設備主要配置為陰極電弧蒸發源，也有配偏壓電源，也有配磁控濺射靶。設備特點：配強大抽氣系統，抽氣快，裝載量大，產能高，生產成本低。可以生產仿金色、玫瑰金色、銀白色、黑色等膜層；采用貼花紙和涂覆水溶性涂料遮擋技術可以得到各種彩色花紋圖案。經瓷磚真空鍍膜設備加工后的瓷磚更具有光澤，耐磨指數大大提高。

切削工具真空鍍膜機

切削工具真空鍍膜機可以提高工具的切削速度和給刀量，降低加工的時間和成本，更長的使用壽命降低了工具更換的成本，涂層具備的熱穩定性、熱硬度和能力、低摩擦系數和低粘附傾向。真空鍍室的真空密封和室內運動部件的設計和用材，充分考慮可承受高溫，配置多只園形電弧蒸發源，或配多個矩形平面電弧蒸發源，也可配多只空心陰極槍，同時配置耐沖擊的、具有優異滅閃弧性能的偏壓電源，保證足夠等離子體密度和反應活性，提高膜層致密性和結合力。工件可三維運動，提高膜層均勻性。全自動控制提高工藝穩定性。