新北金屬真空鍍膜設備服務至上 東莞拉奇納米

離子鍍是在真空蒸發鍍和濺射鍍膜的基礎上發展起來的一種鍍膜技術，將各種氣體放電方式引入到氣相沉積領域，整個氣相沉積過程都是在等離子體中進行的。　　

全SUS304不銹鋼機身，隱藏式雙層冷卻水套設計　　

合理配備多套全新研制的離子弧源，有效保障弧源濺射的穩定性與均勻性　　

采用多路進氣系統，精準控制氣體流量，滿足您多種化合物膜層需求。　　

裝載大功率脈沖偏壓電源，極大提高電粒子能量，從而獲得的膜層結合力和光潔度　　

采用創新工藝制造，精益求精，通過歐盟CE和ISO質量管理體系認證；

物理氣相沉積涂層設備，該設備包括耐高壓真空爐腔、轉爐架、真空系統、陰極電弧系統、控制系統、高溫軸承等，同時采用開發的先進的真空磁控陰極電弧技術，將具有超高硬度、更強結合力、均勻一致的納微米超硬薄膜運用于刀具、各類模具以及機械零部件表面，壽命提高達到3-10倍以上。

研究制備的各類PVD涂層包括高硅涂層、高鋁涂層（氮鋁化鈦）、Cr-Al涂層（AlCrN）、TiCN（氮碳化鈦）涂層、TiN（氮化鈦）涂層、類金剛石（DLC）涂層等。涂層具有光滑、致密、硬度高、耐高溫、抗磨損、防氧化等特點，能夠進行批量和工業化生產應用。

一個真正的單層，即大面積石墨烯薄膜覆蓋在大面積銅箔上。改進了化學氣相沉積(CVD)生長方法，消除了石墨烯生長在銅箔上的所有碳雜質。這種均勻“”的單層單晶石墨烯有望被用作超高分辨率透射電鏡成像和光學設備的超薄支撐材料。也可作為一種合適的石墨烯，以實現非常均勻的功能化，這將促使推動許多其他應用，特別是用于各種類型的傳感器。