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多源有機無機蒸發?系統鈣鈦礦蒸發鍍膜機供應

多源有機無機蒸發系統

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主要用途：

用于納米級單層及多層金屬膜、 半導體膜等新材料的制備。廣泛應用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統組成:

由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空測量、膜厚測試、電控系統組成。

技術指標：

極限真空度5.0×10-5Pa，系統漏率：1×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 Pa

真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數量：4支水冷結構；直徑Φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實現自轉?；臏囟葟氖覝刂?00℃

4套擋板系統：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板（１套）

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統。

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