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手機納米液離子鍍膜的工作原理

離子鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空蒸發鍍膜機、真空多弧離子鍍膜機、真空中頻磁控濺射鍍膜機、多功能中頻磁控濺射多弧復合離子鍍膜機、真空光學(電子束蒸發)鍍膜機等系列真空鍍膜設備，主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

離子濺射鍍膜，多半是在反應氣體存在下進行的，化合物沉積膜的穩定性和光學常數，依賴于氣體的類型和陰極材料。常用的反應氣體為氧氣，常用的陰極材料有鐵、鎳、銅鉛等，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬。反應濺射形成的氧化物是屬于有吸收而折射率不是很高的鍍膜材料。

手機納米膜真空鍍膜與電鍍的區別

真空鍍膜又稱真空離子鍍，是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種全新的干式鍍膜方法。過去物體表面鍍制薄膜作為物體表面改性的手段是采用濕式的電鍍發或化學鍍法。

在電鍍法中，被電解的離子鍍到作為電解液中另一個電機的被鍍件表面上而成膜，因此，其基體必須是良導體，度也難以控制。

(1)水電鍍顏色較單調，一般只有亮銀和亞銀等少數幾種，對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等，五花八門的七彩色就無能為力了;而真空電鍍可以解決七彩色的問題，可鍍金色、紅色、藍色等各種顏色。

(2)真空鍍膜的附著力(附著強度)好，膜層十分牢固，不易脫落。

(3)真空鍍膜的膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。

(4)電鍍一般的鍍層材質采用“六價鉻”，這是非環保材料，無法出口歐美市場，而真空電鍍的鍍層材質為鋁，安全環保，能達到歐美市場的環保監測指標。

真空鍍膜機所以在后掩蔽和清洗輥速度不太快

蒸發鍍膜成分均勻性不易確保，與特定的因素能夠操控，但由于有限的原理，對非單組分涂料，蒸發鍍膜成分均勻性欠好。濺射能夠簡略地理解為電子或高能激光炮擊方針的運用，使得外表成分的自由基或離子方式濺射，并堆積在襯底外表的成膜過程中，經歷，終構成薄膜。真空鍍膜機的設備濺射被分為很多類型，在濺射速率不同點和蒸發將變成一個首要的參數。

激光濺射PLD濺射涂層的成分均勻性，易于保護，和原子標準的厚度均勻性較差（由于脈沖濺射），晶體取向（外）成長的操控也更通常的。

機床的正常運行的情況下，真空鍍膜機發動機器，你有必要首要翻開水管，應一直注意在作業水壓力

同時，離子炮擊和蒸發，應特別注意高壓電線連接器，不能觸摸，以防。涂層中的電子槍，對鋁的外圍鈴。好用鉛玻璃調查窗玻璃，應戴上眼鏡調查鉛玻璃，避免X射線對人體的。多層介質膜的涂層的堆積，真空鍍膜機應當裝置通風除塵設備，及時掃除有害粉塵。

真空鍍膜機實驗專用設備玻璃制擴散泵真空系統

真空泵按工作條件的不同分為兩類：能夠在大氣壓下工作的真空泵稱為初級泵（如機械泵），用來產生預備真空，需要在預備條件下才能工作的真空泵稱為次級泵（玻璃擴散泵），次級泵用來進一步提高真空度,獲得高真空。

擴散泵的液體油有多種,目前廣泛使用的是3號擴散泵油（20℃時飽和汽壓為1.3×10-6Pa）沸點375℃和275號硅油（20℃時飽和汽壓為1.3×10-8Pa）沸點430℃。擴散泵開始工作之前,必須先開動機械泵抽氣，達到預備真空時，便可以使用電爐對擴散泵蒸發器中的油進行加熱,約25～35min的時間,便可觀察到,擴散泵油開始沸騰。當硅油加熱至沸騰時430℃,便產生大量油蒸汽,蒸汽經過導管由各級噴嘴高速噴出。