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發布時間:2020-10-05 20:30  





化學沉鎳后的處理程序有哪些?
化學沉鎳因其性能優良,在各行業都廣泛應用。那么在化學沉鎳施鍍結束之后,有哪些后續的處理程序呢?
工件在化學沉鎳后必須進行清洗和干燥,目的在于除凈工件表面殘留的化學鍍液、保持鍍層具有良好的外觀,并且防止在工件表面形成“腐蝕電池”條件,保證鍍層的耐蝕性。除此之外,為了不同的目的和技術要求還可能進行許多種后續處理;當然,后處理還包括對不合格鍍層的退除。
一、清洗和干燥
工件化學沉鎳完成后,應迅速撈起,然后將鍍件清洗干凈,注意有沒有部位有殘留的鍍液存在,確定沖洗干凈后,烘干鍍后工件,然后擺放整齊,注意檢查合格以后迅速包裝好,在包裝過程中,不要用手直接觸摸鍍件。
二、封閉和鈍化
由于中磷化學鎳有一定的孔隙率,化學沉鎳后,經過封閉或者鈍化,對產品的防腐蝕性能有一定的提高。高磷化學鎳由于孔隙率較低或者完全無孔隙率,一般不需要封閉處理。
化學沉鎳過程中應注意的問題有
漢銘表面處理廠家提醒大家,化學沉鎳過程中應注意的問題有:
化學沉鎳與電鍍相比,缺點是:所用的溶液穩定性較差,且溶液的維護、調整和再生都比較麻煩, 材料成本較高。但是化學沉鎳得到的鍍層是一種非晶態鎳磷合金,結晶細致、孔隙率低、硬度高、鍍層厚度均勻、可焊性好, 鍍液深鍍能力好, 化學穩定性高。
1 化學沉鎳鍍液離子濃度要均勻。由于粒子濃度的差異,會導致后被鍍物兩端沒有鍍好,因此應加強化學沉鎳鍍液的整體對流,又采用循環水泵抽吸的辦法,把鍍液從鍍槽的這一端抽起, 另一端流入, 方向與化學沉鎳反應自動形成的對流循環方向一致, 加強了化學沉鎳鍍液在鍍槽內的整體流動性,使鍍液中的離子濃度分布更加均勻一致。
2、化學沉鎳面積問題
由于鍍件大, 液體多, 因此化學反應不易控制致使生產的鍍件產品容易形成陰陽面, 這是指鍍件和上表面與下表面的鍍層光亮程度、致密性和孔隙率不一致:化學沉鎳上表面鍍層粗糙、金屬顆粒大、孔隙率高、易生銹; 下表面手感光滑, 孔隙率低、致密性良好。
3、化學沉鎳渡槽內襯材料要及時更換
原來的化學沉鎳鍍槽是橡膠內襯, 在使用一段時間后會自然老化。用847 涂料涂在化學沉鎳鍍槽內側,代替橡膠內襯。
化學沉鎳金工藝控制
化學沉鎳金制程控制重點
1、 剝錫鉛:線路上剝錫須完全剝離。
2、 綠漆
(1) 選擇耐化性良好的綠漆。
(2) 印綠漆前銅面適當的粗化及避免氧化。
(3) 適當的厚度,稍強的曝光能量及減少顯影后的側蝕。
(4) 避免曝光后的板子放置過久,使得光阻劑在銅面上過度老化,不易顯干凈。
(5) 注意顯影液的管理。
(6) 顯影后充分的噴水洗,避免任何顯影液在銅面殘留。
(7) 增加出料段輸送滾輪的清洗頻率。
(8) 避免過度烘烤,造成綠漆脆化。
化學鎳金工藝配方特性分析:
a. PH值影響:PH低于8會有混濁現像發生,PH高于10會有分解發生,對磷含量及沉 積速率及磷含量并無明顯影響。
b.溫度影響:溫度影響析出速率很大,低于70°C反應緩慢,高于95°C速率快而無法控制.90°C蕞佳。
c.組成濃度中檸檬酸鈉含量高,螯合劑濃度提高,沉積速率隨之下降,磷含量則隨螯合 劑濃度增加而升高,三乙醇氨系統磷含量甚至可高到15.5%上下。
d.還原劑次磷酸二氫鈉濃度增加沉積速率隨之增加,但超過0.37M后槽液有分解現像, 因此其濃度不可過高,過高反而有害。磷含量則和還原劑間沒有明確關系,因此一般 濃度控制在O.1M左右較洽當。
e.三乙醇氨濃度會影響鍍層磷含量及沉積速率,其濃度增髙磷含量降低沉積也變慢, 因此濃度保持約0.15M較佳。他除了可以調整酸堿度也可作金屬螯合劑之用
f.由探討得知檸檬酸鈉濃度作通當調整可有效改變鍍層磷含量
