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              充電寶LOGO曝光顯影廠家高性價比的選擇,清溪利成感光

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              發布時間:2020-07-23 05:23  
              曝光及顯影設備還包括主體曝光機10、基板輸送機構50及傳送裝置40。主體曝光機10用于先對基板S的主體進行曝光。傳送裝置40用于將來自該主體曝光機10的基板S傳送至基板輸送機構50,傳送裝置40例如為機械手臂。基板輸送機構50用于將基板S輸送至顯影裝置30,基板輸送機構50例如為輸送輥。由于該基板的長邊邊緣容易存在殘留光阻,因此,本公開通過設置對應于基板的長邊邊緣的邊緣曝光裝置20,即可去除絕大部分的殘留光阻。


              覆蓋能力與蝕刻件表面狀態,特別是表面的清潔度有很大關系,相同的基體材料在相同的蝕刻液中施蝕刻時,光潔度好的基體表面上覆蓋能力要比粗糙而不潔的基體表面好。原因是光潔的蝕刻件表面其實際電流密度高,電流均勻,易于達到金屬的析出電位。特別是蝕刻件表面礙蝕刻層處理不觸底,表面存在未除盡污漬、油膜或成相膜層等,將妨礙蝕刻層在表面沉積導致蝕刻層架在薄油膜上,或被局部絕緣,覆蓋呢你下降。


              消費進程中的控制。消費進程中的控制次要表如今對溶液的回收,而不是間接的排放。詳細做法是在任務缸的左近添加一個回收缸,然后再停止水洗等后續加工。

              對清洗水及廢液的處置。蝕刻加工中必要的廢水處置設備是必需的,不能由于本身的利益而危害環境。假如有新添加的工序,應對新增工序所用化學品發生的廢液有完善的處置辦法,假如現有的廢水處置設備不能對其停止處置則必需要新增相應的處置設備,保證從金屬蝕刻消費線所排放的廢水要達標排放。





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