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發(fā)布時(shí)間:2021-10-27 06:33  





微弧氧化膜的優(yōu)勢(shì)
微弧氧化膜與普通陽極氧化膜相比, 這種膜的空隙率大大降低,從而使耐蝕性和耐磨性有了較大提高。目前,微弧氧化技術(shù)主要應(yīng)用于Al、Mg、Ti 等有色金屬或其合金的表面處理中。由于其工藝特點(diǎn)明顯,表面處理的性能優(yōu)勢(shì)突出,自該技術(shù)被發(fā)明以來,備受人們的青睞。鎂合金微弧氧化技術(shù)所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相組成,總膜厚可達(dá)100 Lm以上, 具有明顯的三層結(jié)構(gòu): 外部的疏松層、中間的致密層和內(nèi)部的結(jié)合層。
微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化
微弧氧化膜具有特殊的多孔質(zhì)結(jié)構(gòu),使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應(yīng)用潛力,如在微弧氧化膜的細(xì)孔中填充潤(rùn)滑性物質(zhì),可以作為性能優(yōu)良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長(zhǎng)和性能的因素很多,有待于系統(tǒng)而深入地研究,以弄清楚各因素對(duì)膜性能的影響規(guī)律,使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現(xiàn)性。1.微弧氧化技術(shù)大幅度地提高了材料的表面硬度,顯微硬度在HV800~2000,高可達(dá)HV3000,可與硬質(zhì)合金相媲美,大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度。 微弧氧化電源、微弧氧化技術(shù)、微弧氧化生產(chǎn)線
微弧氧化的應(yīng)用
微弧氧化是通過用的微弧氧化電源在工件上施加高電壓,使工件表面的金屬與電解質(zhì)溶液相互作用,在工件表面形成微弧放電,在高溫、電場(chǎng)等因素的作用下,金屬表面形成陶瓷膜,它是一種直接在有色金屬表面原位生長(zhǎng)陶瓷層的新技術(shù),與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比,微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固,結(jié)構(gòu)致密,具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。微弧氧化處理是一種在有色金屬表面原位生長(zhǎng)氧化物陶瓷的新技術(shù),具有與基體金屬結(jié)合力強(qiáng)、硬度高、耐腐蝕、耐磨損、耐熱沖擊等優(yōu)點(diǎn),是非常有前途的輕合金表面處理方法。
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