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真空腔體

真空腔體是內部為真空狀態的容器,很多先進的技術工藝均需要在真空或惰性氣體保護條件下完成,真空腔體是這些工藝過程中重要的基礎設備.

根據真空度國標真空被分為低真空（100000-100Pa）,中真空（100-0.1Pa）,高真空（0.1-10-5Pa）,超高真空（10-5-10Pa）。標準鐘形罩或柱形腔體的可選直徑是12英寸，14英寸，18英寸和24英寸。低真空主要應用于隔熱及絕緣、金屬熔煉脫氣、無氧化加熱、真空冷凍及干燥和低壓風洞等;高真空主要應用于真空冶金、真空鍍膜設備等領域;超高真空則偏向物理實驗方向。

一般真空腔體內部是規則的長方體,用一面加熱進行熱輻射的方式熱傳導不能合理涵蓋整個腔體的內部空間,所以效果不是很理想,.經過試驗論證,采取在真空腔體內正上方、正下方、左側面、右側面各安裝一套加熱板加熱的方法,采用面對面熱輻射方式對腔體內部進行加熱.

由于設備在真空狀態下采用了上,下,左,右四面四路加熱的方法,比單純一路加熱就要復雜多了,這也是溫度控制的難點.因此采用PID來進行溫度控制調節,控溫熱偶設置在腔體內部,這樣可以更好地控制真空腔體內的溫度.

影響真空絕緣水平的主要因素

電極的幾許形狀

電極的幾許形狀對電場的分布有很大的影響，往往因為幾許形狀不行恰當，引起電場在部分過于集中而導致擊穿，這一點在高電壓的真空產品中特別杰出。

電極邊際的曲率半徑大小是重要因素。一般來說，曲率半徑大的電極接受擊穿電壓的能力比曲率半徑小的大。

此外，擊穿電壓還和電極面積的大小成反比，即跟著電極面積的增大而有所下降。面積增大導致耐壓下降的原因主要是放電概率添加。

真空度

顯現了空隙擊穿電壓和氣體壓強之間的關系。由圖可以看到真空度高于10-2Pa時，擊穿電壓基本上不再跟著氣體壓力的下降而增大，因為氣體分子碰撞游離現象已不復興效果。復雜的真空腔體通常需要定制，即針對應用終端進行專門的設計和制作。當氣體壓力從10-2Pa逐步升高時(真空度下降)，擊穿強度逐步下降，以后又隨氣壓的而。從曲線上可以看出真空度高于10-2Pa時其耐壓強度基本上堅持不變。這就標明，真空滅弧室的真空度在10-2Pa以上時完全可以滿足正常的運用需求。