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氦質譜檢漏原理

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氦質譜檢漏技術是以無色、無味的惰性氣體氦氣為示蹤介質、以磁質譜分析儀為檢測儀器，用于檢漏的一種檢測技術，氦檢漏設備，它的檢漏靈敏度可達10-14～10-15Pam3/s，可以準確確定漏孔位置和漏率。氦質譜檢漏儀主要由質譜室、真空系統組件和電子學控制元件三大部分組成。質譜室接在分子泵的高真空端，入口接在分子泵和機械泵之間，氦檢漏設備價格，利用分子泵對不同氣體具有不同壓縮比的特點，氦氣逆著分子泵的抽氣方向進入質譜室。檢漏儀在質譜室中將氣體電離，這些離子在加速電場的作用下進入磁場，在洛倫茲力作用下發生偏轉，由于不同荷質比的離子具有不同的電磁學特性，偏轉半徑各不相同，在擋板的作用下，氦檢漏設備保養，氦檢漏儀的收集板只允許帶正電的氦離子被接收到，單位時間到達收集板的氦離子對應于一個電流信號，這個電流信號正比于進入到達收集板氦離子的數量，電流信號經過放大后顯示在質譜儀的顯示面板上，其大小反映了泄漏點的漏率，通過泄漏率大小來確定該位置泄漏程度的大小。

氦質譜檢漏儀的示蹤氣體選用氦氣，是因為氦氣具有以下優良特性：

①氦氣在空氣中的含量少，體積含量為5.24×10-6，如果氦氣在環境中的含量超過標準，可以比較容易地探測到極微量的氦氣；

②氦分子小、質量輕、易擴散、易穿越漏孔、易于檢測也易于清除；

③氦離子荷質比小，易于進行質譜分析；

④氦氣是惰性氣體，化學性質穩定，不會腐蝕和損傷任何設備；

⑤氦氣無毒，不凝結，極難容于水。

氦檢漏設備簡介

中文名:真空檢漏

拼音:zhenkong jianlou

英文名:vacuum leak detection

真空系統、容器或器件的器壁因材料本身缺陷或焊縫、機械連接處存在孔洞、裂紋或間隙等缺陷，外部大氣通過這些缺陷進入系統內部，致使系統、容器或器件達不到預期的真空度，這種現象稱為漏氣。造成漏氣的缺陷稱為漏孔。漏孔尺寸微小、形狀復雜，無法用幾何尺寸表示，因此在真空技術中用漏率來表示漏孔的大小。漏率是指單位時間內漏入系統的氣體量，其單位為帕·米3/秒(Pa·m3/sec)或托·升/秒(Torr·L/sec)。

1Pa·m3/sec=7.5(Torr·L/sec)

真空檢漏技術就是用適當的方法判斷真空系統、容器或器件是否漏氣、確定漏孔位置及漏率大小的一門技術，相應的儀器稱為檢漏儀。在真空系統、容器、器件制造過程中借助真空檢漏技術確定它們的真空氣密性、探查漏孔的位置，以便采取措施將漏孔封閉從而使系統、容器、器件中的真空狀態得以維持。

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氦質譜檢漏儀

待機時電離室真空度保持在≤3x10-2Pa，燈絲不易被氧化脆斷。在檢漏過程中，當出現意外情況，系統突然暴露大氣或真空度突然降低，導致大量的氣體突然進入電離室，真空度≥1x10-1Pa時，燈絲電流急劇增大，燈絲被碳化，就發生了脆斷現象。

氦質譜檢漏儀燈絲壽命如何延長？有前面分析已知，造成氦質譜檢漏儀燈絲脆斷的原因：1.真空度低；2.燈絲電流過大；3.對燈絲有害的氣體氣壓太高（氧化性氣體、水蒸氣、氫氣）。那么，在使用中盡量避免燈絲在上述惡劣環境下長時間開啟，或者說盡量提高燈絲的上述使用條件就可以有效延長氦質譜檢漏儀的燈絲壽命。如：1.使用中盡量將預置真空開關空擋；2.避免電離室泄入有害氣體（氧化性氣體、水蒸氣、氫氣）。

真空法氦質譜檢漏原理

真空法氦質譜檢漏原理：

采用真空法檢漏時，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產品內部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產品外表面施氦氣，當被檢產品表面有漏孔時，氦氣就會通過漏孔進入被檢產品內部，再進入氦質譜檢漏儀，從而實現被檢產品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產品外表面噴吹氦氣，可以實現漏孔的定位； 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產品全部罩起來，在罩內充滿一定濃度的氦氣，可以實現被檢產品總漏率的測量。

真空法檢漏有何優點：真空法的優點是檢測靈敏度高，可以定位漏孔，能實現大容器或復雜結構產品的檢漏。

真空法檢漏缺點：真空法的缺點是只能實現一個大氣壓差的漏率檢測，不能真實反映帶壓被檢產品的真實泄漏狀態。

用途：真空法的檢測主要應用于真空密封性能要求，但不帶壓工作的產品，如空間活動部件、液氫槽車、環境模擬設備等。

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