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微弧氧化

       微弧氧化又稱等離子體電解氧化、微等離子體氧化等，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦等金屬及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，原位生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能完全描述陶瓷層的形成。微弧氧化通過電源參數的靈活運用，微弧氧化電解液的特殊匹配，在鈦合金零件表面原位制備微弧氧化陶瓷膜的強化處理，達到防腐、提高發射率、耐磨、高絕緣等性能要求。

       微弧氧化技術是近年來發展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場作用下的放電火花燒結，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫熱蝕以及改善其耐磨性等。特別對于氧化膜要求很厚的樣品可以分幾次氧化，而陽極氧化一旦中斷就必須重新開始。

微弧氧化

      微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。微弧氧化原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極，利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點，在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術。微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場條件下，原位生長陶瓷膜的新技術。微弧氧化技術、微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化工藝