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?PVD真空鍍膜五金真空鍍膜廠

PVD真空鍍膜過程的均勻性

PVD真空鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調及雜質污染、生產環境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節之中。

真空鍍膜廠家真空室形帶來的影響

為盡量減小真空鍍膜機真空室形變帶來的影響，我們將導軌、絲桿等傳動件固定于一個剛性的中間層上，其與真空室底壁之間采用點、

線、面活性支撐，以吸收和隔離形變，并設置形變補償調節機構，在系統抽真，參照有限元計算提供的理論數據預設適當的補償量，以使其在真空狀態下達到平衡。

為了驗證有限元計算的結果，對真空室的形變和補償進行了測試。一步，將四只千分表定位在工作臺安裝基點的真空壁外側，

當真空室由大氣抽到真空時，記錄各千分表的變化量，經一體化處理后為用激光自準直儀調整i形變補償。

在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

　　真空鍍膜技術初現于20世紀30年，四五十年開始出現工業應用，工業化大規模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業中取得廣泛的應用。

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。真空鍍膜廠家 多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，