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氦質(zhì)譜檢漏儀

真空檢漏的方法很多，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用大大提升了檢漏工作效率。

漏孔是指真空器壁上存在的形狀不定、極其微小的空洞或間隙。大氣通過其進入真空系統(tǒng)或容器中；

漏率（漏氣速率）：是指單位時間內(nèi)通過漏孔或間隙流入到真空系統(tǒng)或容器的氣體量；

1小可檢漏率：是指采用某種檢漏方法或儀器可能檢測出來的1小漏率；

檢漏靈敏度：也叫有效靈敏度，指檢漏儀器在1佳工作狀態(tài)下能檢出的1小漏率；

反應時間：也稱響應時間，是指從檢漏方法開始實施（如噴射示漏氣體）到指示方法或儀器指示值上升到其漏孔1大泄漏率的63%時所需要的時間；

消除時間：是指從檢漏方法停止（如停止噴吹示漏氣體）到指示方法或儀器指示值下降到漏孔泄漏率的37%時所需的時間；

漏孔堵塞現(xiàn)象：指由于真空檢漏作業(yè)操作不當導致塵埃或液體堵塞漏孔，檢漏時似乎不漏氣，但一經(jīng)排氣就會出現(xiàn)漏氣的一種現(xiàn)象。

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實驗室氣體管道設計要求

了解實驗室設計的都知道：實驗室的任何的設計都是有規(guī)格要求的，出了這個要求的范圍那么實驗室的設計就有漏洞，就不合格，就容易發(fā)生事故。實驗室的氣體的排放是非常重要的，如果說實驗室氣體管道設計不合理，工作人員就容易出事，甚至嚴重的就會有生命危險。2、特氣系統(tǒng)，內(nèi)向測漏法測定的泄漏率不得大于1*10-9mbar*l/s。

高純氣體的輸送管路系統(tǒng)

隨著微電子工業(yè)的發(fā)展，超大規(guī)模集成電路制造的硅片尺寸越做越大，要求半導體制造工藝中的氣體品質(zhì)相應越來越高，對氣體中雜質(zhì)和露1點要求極為嚴格，需要達到ppb、ppt級，塵埃粒徑求控制小于0.1～0.05m的微粒，因此對高純氣體的輸送管路系統(tǒng)提出了非常高的要求 。根據(jù)行業(yè)規(guī)范,對特氣房選址、安全間距、防火分區(qū)、房間通風、電氣防爆等進行評估。