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鍍膜機廠家介紹光學監控法的特點

真空鍍膜機膜厚的監控方法較多，目前較新的方法是光學監控法，其相對于的傳統的石英晶體微量平衡法來說，光學監控法更具有準確性，因為傳統的測試的方法很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成較大的誤差。下面鍍膜機廠家就來為大家介紹一些光學監控法的特點。

光學監控法可以有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少誤差，提供了反饋或傳輸的選擇模式和大范圍的監測波長，光學監控法非常適合于各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。能夠更準確地控制膜層厚度 。

上述所說就是鍍膜機廠家為大家介紹的光學監控法的一些特點，而從中我們不難看出光學監控相比傳統的監控法來說是一種更適合對真空鍍膜機膜厚的監測方法。

磁控濺射鍍膜設備濺射方式

繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。

真空電鍍機操作注意事項

左旋鈕“1”順時針旋轉至指向2區段的加熱位置。

低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至110mA時，左旋鈕'1'旋轉至指向2區段測量位置。

當低真空表“2”內指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。這時左旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

真空鍍膜機開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。

低壓閥拉出。重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉至指向2區段測量位置。低真空表“2”內指針順時針移動，當指針移動至6.7Pa時，開高壓閥（閥桿順時針旋轉）。

等低真空表“2”內指針右移動至0.1Pa時，開規管燈絲開關。

發射、零點測量鈕“9”旋轉至指向發射位置。

左下旋鈕“1”旋轉至指向1區段測量位置。

旋轉發射調節鈕“4”，使高壓真空表“5”內指針指向5。

發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向零點位置。

旋轉零點調節鈕“10”，讓高壓真空表“5”內指針指向0位置。

發射、零點、測量旋鈕“9”旋轉至指向測量位置。

旋轉標準調節鈕“3”，讓高壓真空表“5”內指針指向10。

旋轉“倍加器”開關鈕“8”至指向10-12，當高壓真空表“5”內指針逆時針左移超過1時，再把“倍加器”開關旋鈕“8”旋轉至指向10-3。