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鍍硬鉻時該采取什么電流方式？

我們知道在電鍍鉻時需要通電進行反應，那么鍍硬鉻時可以采取什么通電方式呢？

我們可以采用沖擊電流來幫助反應。沖擊電流可以用以改善鍍硬鉻時鍍鉻溶液的覆蓋能力， 并使鍍層均勻， 對于復雜零件及表面粗糙零件的鍍鉻尤其重要。采用沖擊電流時， 在陽及處理后立即反轉電流方向， 用高的陰極電流密度沖擊 1～2min， 其值為正常鍍硬鉻時陰極電流密度的 1. 5～2. 5 倍左右。 然后再逐漸降至正常陰極電流密度。

沖擊電流也可用于鑄鐵件鍍硬鉻， 由于鑄鐵件中含有大量的碳， 氫在碳上析出的過電位較低。 另外鑄鐵件表面有很多氣孔， 使得真實表面積比表觀面積大很多， 若以正常電流密度施鍍，則因真實電流密度太小， 沒有金屬鉻的沉積。 所以在鑄鐵件鍍硬鉻時， 必須采用沖擊電流， 增大陰極極化。

鍍硬鉻表層出現暗淡、無光澤、麻點是什么原因

在平時的電鍍硬鉻過程中，可能會出現鍍硬鉻表層出現暗淡、無光澤、麻點的情況。那么是什么原因導致的呢？宣城漢銘表面處理公司來為您解答：

鍍硬鉻表層出現暗淡、無光澤、麻點的可能原因：三價鉻離子過多原因分析：鍍硬鉻液中的三價鉻離子是鉻電沉積過程中Cr6 在陰極上還原產生的，與此同時，Cr3 在陽極上又將重新被氧化成Cr6 ，所以，Cr6 在鍍硬鉻的鍍鉻液中的含量在一定條件下可達到平衡，平衡時的濃度取決于陰、陽極面積之比，一般為SA:Sk=2:1。

鍍硬鉻的鍍液中Cr3 是陰極膠體膜骨架，是陰極膠體膜的主要成分，只有當鍍硬鉻的鍍鉻液中含有一定的Cr3 時，鉻的沉積過程才能正常進行。普通鍍鉻液中三價鉻的蕞佳含量取決于鍍硬鉻的鍍液的組成、工藝條件及雜質的含量，一般為2～4g/L(有資料報道：Cr3 含量大約為鉻酸含量的l％～2％)，不允許超過8g/L。

當Cr3 過低時，相當于SO42-含量偏高時出現的現象，使陰極膜不連續，鍍硬鉻的鍍液的分散能力差，而且硬度低、光澤性差、電流效率也較低，而且只有在較高的電流密度下才產生鉻的沉積。當Cr3 過高時，相當于SO42-含量不足，陰極膜增厚，不僅顯著降低鍍液的導電性，使槽電壓升高，而且鍍硬鉻的鍍鉻層的光亮度范圍縮小，工件的jian端或邊緣會出現燒焦，如果陰極電流密度較低時，會使工件深凹處鍍不上鉻，還會引起鍍層產生暗色、脆性及斑點等。嚴重時，只能產生粗糙、灰色鍍層。

如何提高活塞桿表面鍍硬鉻的質量的方法

漢銘鍍硬鉻廠家為大家解答提高活塞桿表面鍍硬鉻的質量的方法：

1、在鍍硬鉻時，其活塞桿的均勻性是可以根據活塞桿陰極析出氫氣泡逸出的大小來進行調節陽極布掛的稀密程度的。因為這樣鍍硬鉻可以使氫氣泡逸出均勻一致，從而使活塞桿上鍍覆厚度得到均勻。

2、在活塞桿人表面鍍硬鉻電鍍過程中，為了防止凸出點或邊緣放電，我們應該在距離電源點6mm-12mm處裝上一個小陰極(保護、分流裝置)。但是在裝載時，不可以安裝超過夾具的導電能力的小陰極。

3、活塞桿在表面鍍硬鉻電鍍的過程中，應將其活塞桿兩端裝上輔助陰極環，水平放在調節架上，其高低可以用調節架上的螺母進行調節。然后再水平吊入長鍍槽中，這時，其鍍槽的一端應是具有夾持活塞桿的機構，這樣才可以將活塞桿通過軸桿外端螺母螺桿，來夾緊在夾持機構的外端上。

4、采用水平旋轉裝卡鍍硬鉻法，因為這種方法可以改變活塞桿在表面鍍硬鉻電鍍過程中的電鍍電路近似等值電阻電路，使電力線近似均勻分布、鍍硬鉻的鍍液的分散能力均有所改善。但是在使用時，雖平放在地面上，并用絕緣材料制造了調節架，然后再改進夾持的方法和導電的機構，后使活塞桿出現轉動的現象。