派瑞林絕緣涂層貨源充足「菱威納米」

       派瑞林不僅絕緣防銹性能非常的好而且生物相容性也很好，它已通過論證，滿足美國藥典生物材料VI類的標準，被列為是一種可以在體內長期植入使用的生物材料。隨著生物電子科學的不斷進步和發展，在國外除了心臟起搏器用派瑞林進行可靠絕緣防護外，腦電極、植入式傳感器、血液分析傳感器和高頻手術刀等微型電子，也都有使用派瑞林。派瑞林對有很大幫助和用途，比如，針灸針，血管支架，封堵器，導管等等。

      Parylene派瑞林使用之前，一些（涂層）磨損中心很容易使磁性繞組電線失去絕緣性。Parylene不僅能克服這一缺點，而且形成耐摩擦的內表面,這樣可加速延展和繞組過程。同時可以增加鐵氧體等磁性材料的介電性及耐高壓性能，可以克服普通環氧樹脂噴涂等方面的缺點。

       真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。Parylene HT（SCS）該材料具有更低的介電常數(即透波性能好)、好的穩固性和防水、防霉、防鹽霧性能.短期耐溫可達450攝氏度,長期耐溫可達350攝氏度,并具有強的抗紫外線能力.更適合作為高頻微波器件的防護材料。

       Parylene真空鍍膜以其良好的耐腐蝕、耐，、 低阻滯性、低摩擦系數及生物相容性，在國際臨床運用的生物的表面涂層上，將逐步取代TiNi（鎳鈦）合金涂層而被列為*材料。如骨釘、探針、針頭、臨時手術器械、導尿管、制動器及耳蝸植入器，心臟起搏器、腦電極、植入式傳感器、射頻、血液分析傳感器和高頻手術刀等微型電子。

       真空涂層技術發展到了今天還出現了PCVD(物理化學氣相沉積)、MI-CVD(中溫化學氣相沉積)等新技術，各種涂層設備、各種涂層工藝層出不窮。目前較為成熟的PVD方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的DC電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm時，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開始變朦。多弧鍍另一個不足之處是，由于金屬是熔后蒸發，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。可見，多弧鍍膜與磁控濺射法鍍膜各有優劣，為了盡可能地發揮它們各自的優越性，實現互補，將多弧技術與磁控技術合而為一的涂層機應運而生。在工藝上出現了多弧鍍打底，然后利用磁控濺射法増厚涂層，后再利用多弧鍍達到終穩定的表面涂層顏色的新方法。

       真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發，然后沉積在基體表面上，蒸發的方法常用電阻加熱，電子東轟擊鍍料，使蒸發成氣相，然后沉積在基體表面，歷，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術。

       濺射鍍膜基本原理：充(Ar)氣的真空條件下，使氣進行輝光放電，這時(Ar)原子電離成氮離子(Ar)，離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會被濺射出來而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在10-2pa~10Pa范圍，所以濺射出來的粒子在飛向基體過程中，易和真空室中的氣體分子發生碰撞，使運動方向隨機，沉積的膜易于均勻。