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雙靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

設(shè)備用途：

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。同時(shí)設(shè)備具有反濺射清洗功能，以提高膜的質(zhì)量和牢固度。

設(shè)備組成

系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶（2個(gè)靶）、單基片加熱臺、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺等部分組成。

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雙室磁控濺射系統(tǒng)

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設(shè)備簡介

主要特點(diǎn)是設(shè)備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實(shí)驗(yàn)室供電要求低；該系列設(shè)備主要部件采用進(jìn)口或者國內(nèi)最優(yōu)的配置，從而提高設(shè)備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設(shè)備的運(yùn)行重復(fù)性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進(jìn)行配置，比較靈活；標(biāo)配4只Φ2英寸永磁靶，4臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜以及絕緣膜等。靶材和輝光之間為電壓降區(qū)域，給正離子提供足夠能量的電場，正離子加速轟擊到靶材上，使靶材的物質(zhì)濺射出來，沉積到基體上（兩側(cè)的長線）。

【磁控濺射鍍膜設(shè)備】使用注意事項(xiàng)

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磁控濺射鍍膜設(shè)備是目前一種鍍膜產(chǎn)品，相比傳統(tǒng)的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設(shè)備無毒性，能夠掩蓋，彌補(bǔ)多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)得到了廣泛的應(yīng)用，現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設(shè)備生產(chǎn)，

經(jīng)驗(yàn)豐富的卻造磁控濺射鍍膜設(shè)備廠家，就一定會(huì)有一定的規(guī)模，這類磁控濺射鍍膜設(shè)備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設(shè)備其技術(shù)含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設(shè)備時(shí)一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)含量高，那么就一定要擁有一個(gè)非常強(qiáng)大的磁控濺射鍍膜設(shè)備技術(shù)工程隊(duì)伍，

磁控濺射鍍膜設(shè)備行業(yè)資深的專家，磁控濺射鍍膜設(shè)備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設(shè)計(jì)配置。