ZF450多源蒸發鍍膜機供應誠信企業「在線咨詢」

鈣鈦礦鍍膜設備

以下內容由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供，今天我們來分享電阻熱蒸發鍍膜產品的相關內容，希望對同行業的朋友有所幫助！

設備用途 ：

適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產前的試驗工作。廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域

設備組成：

該設備主要由沉積室、真空排氣系統、真空測量、蒸發源、樣品加熱、電控系統、等部分組成。

      1、鍍膜室：方形前后開門結構，內帶有防污板。

      2、真空度：鍍膜室的極限真空≤5×10-5Pa；

      3、蒸發源系統：有機源蒸發源4個，無機蒸發源2套

      4、樣品架系統：樣品大小為Φ150mm的樣品，旋轉速度為：0～30轉/分；

      5、樣品在鍍膜過程中，可烘烤加熱，加熱溫度為：室溫～190℃，測溫控溫。

      6、膜厚控制儀：測量范圍0-999999?

鈣鈦礦蒸發鍍膜機的特點

1、樣品位于真空室上方，蒸發源位于真空室下方，向上蒸發鍍膜，且蒸發源帶有擋板裝置。</span>

2、設有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度可達180℃。

3、設有斷水、斷電連鎖保護報警裝置及防誤操作保護報警裝置。

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