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鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應用

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

物理氣相沉積（PVD）是一種真空鍍膜工藝，許多人知道常用于提高切削刀具的性能。但北京丹普表面技術(shù)有限公司的真空鍍膜機設備可以提供陰極電弧PVD涂層服務可提供更硬，更潤滑的產(chǎn)品，與未涂層工具相比，可將工具壽命提高10倍。耐磨表面。同時由于PVD是一種干法鍍技術(shù),可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質(zhì)溶液殘留在磁體孔隙內(nèi)和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。 此外，制造商越來越多地使用PVD涂層來區(qū)分其設備的外觀與類似產(chǎn)品和/或增強其設備的性能，因為硬質(zhì)惰性涂層具有生物相容性，不會與骨骼發(fā)生反應，組織或體液。涂覆PVD涂層的的實例包括，鉆頭和針頭，以及用于各種裝置組件以及應用的“磨損”部件。

鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應用 薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：由于薄膜很薄可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。車燈鍍膜機 為了更精密地記錄與存儲信息，必然要采用鍍膜技術(shù)。

鍍膜技術(shù)在傳感器方面的應用 在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學量及其變化來說，極為敏感的半導體材料。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。

主要分類有兩個大種類: 蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等 。