臺灣氣相沉積設備廠家優(yōu)惠報價

國內外研究人員一直致力于開發(fā)取代電鍍的表面防護技術的研究,物理氣相沉積(PVD)技術作為一種環(huán)境友好技術,具有很多其他技術所不具備的特點,通過控制其工藝參數(shù)可以得到晶粒細小、厚度均勻、膜基結合力優(yōu)異的鍍層;同時由于PVD是一種干法鍍技術,可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質溶液殘留在磁體孔隙內和電鍍過程中磁體吸氫而導致鍍層脆裂的缺點。然而，PVD表面處理受批量生產成本和某些因素的限制,現(xiàn)在并沒有大規(guī)模生產應用。真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。

真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜。真空鍍膜設備若有灰塵，將會影響真空鍍膜的效果和質量。真空鍍膜設備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術。由于真空熱處理時，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。因此，選用現(xiàn)代化光學鍍膜系統(tǒng)的關鍵取決于對以下因素的認真考慮：對鍍膜產品的預期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

  在真空條件下加熱工件，主要依賴輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢