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金屬uv鍍廠武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家，主要鍍膜產品有不銹鋼，鐵，鋁合金，玻璃制品，塑料工藝制品等，鍍膜顏色多樣豐富，可根據客戶的產品進行設計和定制。

恒緣鈦金與您分享鍍膜中常見的幾種離子源

離子源類型雖多，目的卻無非在線清洗，改善被鍍表面能量分布和調制增加反應氣體能量。離子源可以大大改善膜與基體的結合強度，同時膜本身的硬度與耐磨耐蝕特性也會改善。脫脂是為去掉電鍍產品表面的油污，為后面的電鍍鍍層沉積提供所需要的電鍍表面，讓產品的膜層結合力更加好。若是鍍工具耐磨層，一般厚度較大而對膜厚均勻性要求不高，可采用離子電流較大能級也較高的離子源，如霍爾離子源或陽極層離子源。

陽極層離子源，與霍爾離子源原理近似。在一條環形（長方形或圓形）窄縫中施加強磁場，在陽極作用下使工作氣體離子化并在射向工件。陽極層離子源可以做得很大很長，特別適合鍍大工件，如建筑玻璃。脫脂除油是為了去除將要電鍍的工件表面油脂，而除油的手段也有很多，比如有ji溶劑除油、化學除油、點化學除油、擦拭除油、滾筒除油等，根據不同的工件采用不同的除油方式。陽極層離子源離子電流也較大。但其離子流較發散，且能級分布太寬。一般適用于大型工件，玻璃，磨損，裝飾工件。但應用于髙級光學鍍膜并不太多。

考夫曼離子源是應用較早的離子源。屬于柵格式離子源。首先來說，添加劑的種類有很多，比如柔軟劑、穩定劑、光澤劑、潤濕劑等，主鹽與添加劑一起聯合，決定了使用鍍液的整體性能是怎樣的。首先由陰極在離子源內腔產生等離子體，讓后由兩層或三層陽極柵格將離子從等離子腔體中抽取出來。這種離子源產生的離子方向性強，離子能量帶寬集中，可廣泛應用于真空鍍膜中。缺點是陰極（往往是鎢絲）在反應氣體中很快就燒掉了，另外就是離子流量有極限，對需要大離子流量的用戶可能不適和。

霍爾離子源是陽極在一個強軸向磁場的協作下將工藝氣體等離子化。這個軸向磁場的強不平衡性將氣體離子分離并形成離子束。由于軸向磁場的作用太強，霍爾離子源離子束需要補充電子以中和離子流。常見的中和源就是鎢絲（陰極）。

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恒緣鈦金與您分享真空鍍膜的方法

真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。恒緣鈦金與您分享五金真空電鍍鈦膜層小知識鈦主要用于不銹鋼裝飾，而五金真空電鍍鈦則是其中的一種表面處理工藝，主要借用惰性氣體的輝光放電使金屬或合金蒸氣離子化，離子經電場加速而沉積帶負電荷的不銹鋼板上，使之形成色澤豐富，外觀艷麗的金屬膜層。為了讓大家更詳細的了解真空鍍膜的應用，今天小編詳細為大家介紹真空鍍膜應用的主要幾種方法，希望對大家有用!

真空鍍膜應用，簡單地理解就是在真空環境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對于傳統鍍膜方式，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍

其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。

濺射鍍膜

濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的ya離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。

離子鍍膜

即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對面，把惰性氣體(如ya)通入已抽空的室內，保持壓強約1。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。

真空卷繞鍍膜

真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。

恒緣鈦金與您分享不銹鋼鍍鈦

不銹鋼鍍鈦是如今非常受歡迎的一種表面處理方式，尤其是在不銹鋼屏風、不銹鋼隔斷、不銹鋼酒柜等方面應用更是非常多，可能直接說鍍鈦很多人不了解。

玫瑰金、鈦金、黑鈦、香檳金等顏色，都是通過電鍍鍍鈦的方式加工而成的。不銹鋼鍍鈦雖然可以讓不銹鋼表面變得非常漂亮，但是在加工過程中也有很多需要注意事項，如果不去注意鍍完的產品就會出現各種瑕疵。