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電子超純水

1．遵循標準：GB/T 11446.1-1997 《電子級水》2．基本處理流程：1)原水à預處理à雙級RO反滲透à混床à產水2)原水à預處理à雙級RO反滲透àEDIà產水3)原水à預處理à雙級RO反滲透àEDIà拋光床à產水3．適用范圍：適于處理生產顯像管、集成電路芯片、單晶硅半導體、液晶顯示器、計算機硬盤、印刷電路板等工藝所需的純水和超純水。

醫l藥用純水

【遵循標準】:中華人民共和國藥典2000版相關標準GMP 相關規定設備全自動運行和有條件的全自動處理程序（如反沖洗、再生、酸洗、消毒程序）單體和管道設備符合GMP的要求（如后端處理設備如殺菌器、膜濾、終端水箱、管路均采用316L材料， 預處理設備的管路采用UPVC管材）純化水水質標準：電阻率：≥0.5M，電導率：≤2μS 氨≤0.3μg/ml 硝l酸鹽≤0.06μg/ml 重金屬≤0.5μg/ml 典型醫l藥用純水反滲透法制備純水技術是60年代發展起來的新技術。由于它操作工藝簡單，除鹽和除熱源效l率高，又比較經濟。《美國藥典》從19版開始收載此法，為制備注l射用水的法定方法之一。

制藥用水要求

1、結構設計應簡單、可靠、拆裝簡便；2、為便于拆裝、更換、清洗零件，執行機構的設計盡量采用的標準化、通用化、系統化零部件；3、設備內外壁表面，要求光滑平整、無死角，容易清洗、滅菌。零件表面應做鍍鉻等表面處理，以耐腐蝕，防止生銹。設備外面避免用油漆，以防剝落；4、制備純化水設備應采用低碳不銹鋼或其他經驗證不污染水質的材料。制備純化水的設備應定期清洗，并對清洗效果驗證；