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對(duì)生產(chǎn)區(qū)作業(yè)服清潔要求是什么?

對(duì)生產(chǎn)區(qū)作業(yè)服清潔要求是什么？ 1）按工衣清潔規(guī)程進(jìn)行清潔。從事粉塵、活性物質(zhì)、有毒、有害物質(zhì)操作崗位的作業(yè)服應(yīng)別離清洗，別離寄存并作符號(hào)。 2）潔凈區(qū)與一般生產(chǎn)區(qū)域的服裝顏色清楚，易于辨認(rèn)，不得混用。 3）作業(yè)服（包含工鞋、工帽）發(fā)塵量要小、不掉纖維、不易發(fā)生靜電、不易粘附粒子、無破損、洗刷后平整、柔軟，穿戴舒適方便。

九十年代初至今,是國內(nèi)潔凈技術(shù)與國際全國接軌,走向規(guī)范化的時(shí)

潔凈技術(shù)在中國的發(fā)展 在中國，潔凈技術(shù)的起步和奠基階段是六十年代初至七十年代末。1965 年，由中國建筑科學(xué)研究院空氣調(diào)節(jié)研究所和蚌埠絕緣材料廠等單位研制完成帶波紋隔板的空氣過濾器通過鑒定，標(biāo)志了我國潔凈技術(shù)開始正式起步。同時(shí)，一此電子技術(shù)、精密機(jī)械和工業(yè)相關(guān)的設(shè)計(jì)院，也在探索、研究潔凈室的工程設(shè)計(jì)。1965年建成的沈陽119廠和石家莊13所就是由三機(jī)部四院（現(xiàn)航空工業(yè)部第四設(shè)計(jì)院）和四機(jī)部第二設(shè)計(jì)院（現(xiàn)中國電子工程設(shè)計(jì)院）分別參照原蘇聯(lián)的妝化等級(jí)設(shè)計(jì)建設(shè)的。到七十年代末至八十年代末，這十年間，中國的潔凈技術(shù)經(jīng)歷了一段陽光燦爛的發(fā)展階段，許多標(biāo)志性的重要成果，幾乎都誕生在這個(gè)階段，如標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范制定與國際交往方面；生物潔凈室在方面陸續(xù)得到推廣應(yīng)用；在產(chǎn)品研制與開發(fā)方面達(dá)到八十年代國外的技術(shù)水平等等。九十年代初至今，是國內(nèi)潔凈技術(shù)與國際全國接軌，走向規(guī)范化的時(shí)代。隨著中國經(jīng)濟(jì)始終保持穩(wěn)定的高速增長，國際投資持續(xù)注入，一批跨國集團(tuán)在中國陸續(xù)興建了眾多的微電子工廠因此國內(nèi)技術(shù)與研究人員有更多機(jī)會(huì)直接接觸國外別潔凈室的設(shè)計(jì)理念，了解世界的先進(jìn)設(shè)備和裝置、管理與維護(hù)等等。從這方面來看，的確從各個(gè)角度與國際日益接軌。

競爭方向轉(zhuǎn)變由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競爭

競爭方向轉(zhuǎn)變 由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r(jià)值競爭。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢，對(duì)元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對(duì)潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價(jià)格競爭轉(zhuǎn)向技術(shù)競爭，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計(jì)和建造符合要求的的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場競爭的焦點(diǎn)。