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鍍硬鉻常見故障及排除方法

結合力差產生原因：

①工件預熱時間過短

②鍍液溫度太低，電流密度太大

③高合金鋼表面鈍化膜未除凈

④底金屬內應力大，陽極處理時間過長

排除方法：

①薄壁零件應預熱3～10min，厚件預熱5～15min

②正確維護鍍液的溫度和電流密度

③加強鍍前處理

大面積零件中心無鉻層

產生原因：

①沖擊電流過小

②硫酸含量過高

③開始電鍍時采用的小電流時間過長

排除方法：

①提高沖擊電流

②用碳酸鋇處理

③階梯式給電應在3～5min升至正常

離子色譜法測定硬鉻鍍液中催化劑含量

鉻酸酐又稱三氧化鉻，是一種強氧化劑，廣泛應用于電鍍行業。近年來，隨著電鍍工藝的不斷改進，鍍層質量不斷提高，電鍍所用材料成為影響鍍層質量的一個重要因素。鉻酸酐是電鍍液的主要組分，為了改善鍍層性能，通常需要加入適量催化劑，起到穩定鍍液、細化結晶、提高分散能力與深鍍能力、增加鍍層光亮性等。除硫酸根外，氟化物、肖酸鹽、有機磺酸常常作為鍍鉻的催化劑。當催化劑含量過低時，得不到鍍層或得到的鍍層很少。若催化劑超量時，會造成覆蓋能力差、電流效率下降，并可能導致局部或全部沒有鍍層。

因此，在生產過程及時準確的檢測催化劑濃度是控制電鍍過程的至關重要的環節。離子色譜法測定其含量是目前所有方法中蕞簡單方便的，可以同時分析定量。常見無機陰離子的測定用離子色譜法已經很成熟，我們這里主要講有機磺酸的測定。

鉻酸酐具有強氧化性，使用陰離子交換分離-抑制電導檢測可能對色譜柱造成不可逆的損壞，樣品不能直接進樣。鉻酸酐溶于水后生成CrO42-, CrO42-干擾測定，為消除干擾，為消除CrO42-干擾，需要選用合適的還原性物質將CrO42-還原為Cr3 ，以沉淀的方式除去，且不帶入雜質離子，影響待測離子的測定，保證還原和沉淀迅速，前處理過后取上清液過H柱、濾膜，離子色譜儀進樣分析。

電鍍硬鉻工藝，鉻是一種微帶天藍色的銀白色金屬，具有很強的鈍化性能，在大氣中很快鈍化，顯示出的耐腐蝕性能，因此鉻被廣泛應用在各個領域。就目前對鉻應用來說，主要分為裝飾性鍍鉻和鍍硬鉻兩大類。

裝飾性鍍鉻是為了防止基體材料腐蝕和美化外觀，一般鍍層厚度在0.3-0.5um左右;鍍硬鉻則作為一種功能性電鍍，主要是利用金屬鉻的特性以提高機械零件的硬度、耐磨、耐蝕、耐溫等物理化學性能。一般厚度在2-50um，用于零件修復的厚度可達800-1000um。