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              發布時間:2020-09-07 08:22  







              等離子干法刻蝕技術是利用等離子體進行薄膜微細加工的技術。在典型的干法刻蝕工藝過程中,一種或多種氣體原子或分子混合于反應腔室中,在外部能量作用下(如射頻、微波等)形成等離子體,干法刻蝕技術由于具有良好的各向異性和工藝可控性已被廣泛應用于微電子產品制造領域,憑借在等離子體控制、反應腔室設計、刻蝕工藝技術、軟件技術的積累與創新,北方華創微電子在集成電路、半導體照明、微機電系統、先進封裝、功率半導體等領域可提供高端裝備及工藝解決方案。形成了對硅、介質、化合物半導體、金屬等多種材料的刻蝕能力,其中應用于集成電路領域的硅刻蝕機已突破14nm技術,進入主流芯片代工廠,其余各類產品也憑借其優異的工藝性能成為了客戶的。






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              公司的全自動環保蝕刻機成功應用于濟南重汽,特變電工, 濟南泉城廣場,山東大學,山東農業大學,電力集團等。設備銷往世界各地:迪拜、泰國、越南、印尼、新加坡、西班牙等,公司主營:蝕刻機,標牌機,腐蝕機,大型熱轉印機,立體玻雕機、印刷設備等全系列新型數控標識設備、技術開發、專業培訓,是數碼標識配套設備供應商,公司產品連續多年榮獲山東消費者滿意單位稱號。

              這倆機器的解釋就是光刻機把電路圖投影到覆蓋有光刻膠的硅片上面,刻蝕機再把剛才畫了電路圖的硅片上的多余電路圖腐蝕掉,這樣看起來似乎沒什么難的,但是有一個形象的比喻,每一塊芯片上面的電路結構放大無數倍來看比整個北京都復雜,這就是這光刻和蝕刻的難度




              目的:除去工件表面的防銹油、潤滑油、乳化液及工作人員分泌的汗漬油脂等。

              成份組成:、碳酸鈉等堿性物質及十二烷基磺酸鈉等。

              脫脂不完全會影響后面涂布工序中保護膜與工件的接合力,以致在蝕刻過程中保護膜脫落造成工件的損壞。

              涂布感光油墨。

              可以采用滿版印刷、刷涂、滾涂或噴涂的方式,對油墨涂層的均一性要求不是很高,只要能保證涂層能夠在蝕刻時對產品需保護部位得到充分的保護。











              不管是蝕刻區是4米還是長至10米或更長,蝕刻藥液必須是連通,且噴淋泵要設計成交叉噴淋,它的作用就是增加的循環量。當然僅是交叉噴淋還是不夠的,越長的蝕刻機,還需要單獨配置循環泵,其意義就是讓每個蝕刻機內的各參數保持一樣,我們通常要求每小時至少要有6個循環量來確保藥液充分循環,這樣每個噴淋泵噴出來的是一樣的,那么做出來的產品也就穩定。




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