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發(fā)布時(shí)間:2020-07-25 05:20  





佛山市錦城鍍膜有限公司以耐高溫車(chē)輛燈具注塑 鍍膜為主的專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廠家,公司秉承“以質(zhì)取勝,求真務(wù)實(shí),顧客至上”理念,歡迎廣大客戶(hù)光臨了解,我們將為你的產(chǎn)品錦上添花.
鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響 :弧靶電流:弧靶電流越大,靶材蒸發(fā)量越大,靶面溫度越高,冷卻越差,弧靶產(chǎn)生的液滴大顆粒越多,膜層外觀越差,膜層中的缺陷越多。

真空鍍膜的形式:蒸發(fā)鍍膜
工藝原理:
1)在真空室中,膜料被加熱變成蒸發(fā)原子,蒸發(fā)原子在真空條件下不與殘余氣
體分子碰撞而到達(dá)工件表面;
2)蒸發(fā)原子與基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;
3)吸附原子在基材表面發(fā)生表面擴(kuò)散。
普通真空鍍膜時(shí),蒸發(fā)料粒子大約只以一個(gè)電子伏特的能量向工件表面蒸鍍,在工件表面與鍍層之間,形成的界面擴(kuò)散深度通常僅為幾百個(gè)埃(10000埃=1微米=0.0001厘米)。而離子鍍時(shí),蒸發(fā)料粒子電離后具有三千到五千電子伏特的動(dòng)能。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn):鍍膜機(jī)構(gòu)造簡(jiǎn)單,造價(jià)便宜、使用可靠,可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對(duì)膜層質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中。當(dāng)其高速轟擊工件時(shí),不但沉積速度快,而且能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴(kuò)散層,離子鍍的界面擴(kuò)散深度可達(dá)四至五微米,也就是說(shuō)比普通真空鍍膜的擴(kuò)散深度要深幾十倍,甚至上百倍,因而彼此粘附得特別牢。
