道滘手機殼LOGO曝光顯影加工高性價比的選擇「在線咨詢」

若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。所以，解決的工藝措施就是嚴格控制曝光時間，每種類型的干膜在起用時應按工藝要求進行測量。如采用瑞士頓21級光楔表，級差0.15，以控制6-9級為宜。曝光時間過長。當曝光過度時，紫外光透過照相底片上透明部分并產生折射、衍射現象，照射到照相底片不透明部分下的干膜處，使本來不應該發生光聚合反應的該部分干膜，被部分曝光后發生聚合反應，顯影時就會產生余膠和線條過細的現象。因此，適當的控制曝光時間是控制顯影效果的重要條件。


曝光不足時，由于聚合不徹底，在顯影過程中，膠膜溶脹變軟，導致線條不清晰甚至膜層脫落，造成膜與銅結合不良；若曝光過度，會造成顯影困難，也會在電鍍過程中產生起翹剝離，形成滲鍍。同時在批量生產時，還應該注意當紫外光管長期運行過程中，產生溫升，熱輻射量大，在底片下的干膜上發生類似與紫外線照射為類似作用，使干膜聚合，也稱熱聚合反應。為此，這就要求曝光機應有冷卻裝置。

對于不同曝光級,物理顯影銀都呈顆粒狀.在較弱曝光級,物理顯影銀顆粒數目多,堆積緊密,這也是影像區呈現親油性的主要原因.

隨著曝光量的增強,銀顆粒數目逐級減少,影像的反射密度也逐級降低.這是因為隨著曝光量的增加,乳劑層中化學顯影過程增強,消耗了鹵化銀,降低了絡合銀離子的濃度,因而在物理顯影核層沉積形成的銀顆粒數量減少.在較強曝光區,只有少量的物理顯影銀顆粒零散地分布在版材表面,銀影像密度只有0 18,版材表面變成了親水性.